基于洛埃镜干涉系统的亚微米光栅的制作与测试

中文摘要	第1-4页
ABSTRACT	第4-6页
第1章 绪论	第6-11页
·光波导和亚微米光栅	第6-7页
·亚微米光栅制作的主要方法	第7-8页
·全息光栅制作原理	第8-9页
·本论文的意义及主要工作	第9-11页
第2章 洛埃镜干涉系统原理分析	第11-21页
·洛埃镜基本干涉原理	第11-12页
·洛埃镜干涉入射角讨论	第12-18页
·光在电介质分界面上的反射波讨论	第12-16页
·光在金属表面的反射分析	第16-18页
·利用洛埃镜设计全息干涉系统的原理	第18-21页
第3章 光栅的加工工艺与制作原理	第21-34页
·利用光刻技术制作的全息光栅	第21页
·光刻胶及光刻技术	第21-26页
·光刻胶简介	第22-23页
·光刻加工步骤	第23-26页
·光致表面调制效应的光折变光栅的原理	第26-32页
·光折变效应	第26-29页
·双光束干涉引起的光折变折射率调制	第29-32页
·光折变热固定过程	第32-34页
第4章 洛埃镜干涉光路及条纹测量系统的设计	第34-50页
·洛埃镜干涉光路设计	第34-40页
·洛埃镜部分的改进	第34-36页
·全息干涉光路的设计与计算	第36-40页
·实验所得条纹及其对比度的分析	第40-46页
·CCD 的选择	第41-42页
·实验所得条纹	第42-44页
·干涉条纹对比度的分析	第44-46页
·条纹实际间距的测量系统设计	第46-50页
第5章 实验结果及误差分析	第50-58页
·实验结果	第50-52页
·误差分析	第52-58页
·光路中的误差分析	第52-56页
·图像采集与测量误差分析	第56-58页
第6章 总结与展望	第58-60页
·已完成的工作	第58页
·展望	第58-60页
参考文献	第60-62页
发表论文与参加科研情况说明	第62-63页
致谢	第63页