| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-10页 |
| ·光源发展历程 | 第6-7页 |
| ·本研究基质材料和掺杂元素的选取 | 第7-8页 |
| ·研究内容和意义 | 第8-9页 |
| ·研究内容 | 第8-9页 |
| ·研究意义 | 第9页 |
| ·本研究课题创新点 | 第9-10页 |
| 第二章 发光机理及YAG结构 | 第10-17页 |
| ·发光材料及荧光粉的发光原理 | 第10-13页 |
| ·发光和发光材料 | 第10-11页 |
| ·发光能带理论 | 第11-12页 |
| ·原子中电子排列 | 第11-12页 |
| ·发光材料的能带与跃迁 | 第12页 |
| ·稀土粒子的结构和发光机理 | 第12-13页 |
| ·晶体场对稀土离子跃迁的影响 | 第13页 |
| ·发光材料性质的表征 | 第13-14页 |
| ·YAG的结构和组成 | 第14-17页 |
| 第三章 YAG:EU~(3+)荧光粉制备及性能表征方法 | 第17-27页 |
| ·YAG荧光粉制备方法 | 第17-20页 |
| ·高温固相法 | 第17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17页 |
| ·燃烧法 | 第17-18页 |
| ·高分子网络凝胶法 | 第18页 |
| ·水热合成法 | 第18-19页 |
| ·沉淀法 | 第19页 |
| ·喷雾热解法 | 第19页 |
| ·溶剂热法 | 第19页 |
| ·各种制备方法的比较及采用的方法 | 第19-20页 |
| ·YAG:Eu~(3+)荧光粉的制备 | 第20-22页 |
| ·实验原料及仪器 | 第20-21页 |
| ·工艺路线 | 第21-22页 |
| ·样品的表征 | 第22-23页 |
| ·X射线衍射分析 | 第22页 |
| ·SEM表征 | 第22页 |
| ·荧光光谱分析 | 第22-23页 |
| ·结构解析 | 第23-27页 |
| ·Rietveld方法简介 | 第23-24页 |
| ·Rietveld方法的基本原理 | 第24-25页 |
| ·Rietveld方法数据的收集 | 第25页 |
| ·Rietveld方法精修步骤 | 第25-27页 |
| 第四章 YAG:EU~(3+)荧光材料的性能表征及结构对发光强度的影响 | 第27-41页 |
| ·X射线衍射结果 | 第27-31页 |
| ·煅烧温度对荧光粉结构的影响 | 第27-28页 |
| ·Eu~(3+)掺杂量对荧光粉结构的影响 | 第28页 |
| ·实验数据的Rietveld全谱拟合 | 第28-31页 |
| ·SEM结果 | 第31-33页 |
| ·煅烧温度对荧光粉形貌的影响 | 第31-32页 |
| ·Eu~(3+)掺杂量对荧光粉形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·荧光光谱分析 | 第33-38页 |
| ·煅烧温度对荧光粉发光性能的影响 | 第35-37页 |
| ·激活剂Eu~(3+)掺杂量对荧光粉发光性能的影响 | 第37-38页 |
| ·结构的变化对发光强度的影响 | 第38-41页 |
| 结论与展望 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第46-47页 |
| 附录 | 第47-56页 |
| 1 引言 | 第47-48页 |
| ·虚拟仪器介绍 | 第47页 |
| ·虚拟仪器的现状 | 第47-48页 |
| ·虚拟仪器在物理实验室的应用 | 第48页 |
| 2 系统功能 | 第48-49页 |
| 3 硬件平台的构建 | 第49-50页 |
| 4 软件的设计 | 第50-54页 |
| 5 结论 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
