| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-33页 |
| 1.1 超导材料概述及其发展历史 | 第12-17页 |
| 1.1.1 超导材料的发展历史 | 第12-14页 |
| 1.1.2 超导材料的参数条件及其特性 | 第14-17页 |
| 1.2 超导材料的应用 | 第17-19页 |
| 1.2.1 电力、能源和医疗方面的强电应用 | 第17-18页 |
| 1.2.2 电子和通信方面的弱电应用 | 第18-19页 |
| 1.2.3 交通方面的抗磁性应用 | 第19页 |
| 1.3 实用性高温超导材料 | 第19-25页 |
| 1.3.1 铋系高温超导体BSCCO | 第20-23页 |
| 1.3.2 钇系高温超导体YBCO | 第23-25页 |
| 1.4 YBCO带材的结构与制备 | 第25-28页 |
| 1.4.1 基带 | 第25-26页 |
| 1.4.2 缓冲层 | 第26-27页 |
| 1.4.3 超导层 | 第27页 |
| 1.4.4 保护层 | 第27-28页 |
| 1.5 薄膜的制备方法概述 | 第28-30页 |
| 1.5.1 三氟乙酸-金属有机沉积法 | 第28页 |
| 1.5.2 共蒸发法 | 第28-29页 |
| 1.5.3 磁控溅射法 | 第29页 |
| 1.5.4 脉冲激光沉积法 | 第29页 |
| 1.5.5 金属有机化学气相沉积法 | 第29-30页 |
| 1.6 本论文研究意义及内容 | 第30-33页 |
| 1.6.1 研究意义 | 第30-31页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 薄膜制备和表征 | 第33-45页 |
| 2.1 激光化学气相沉积法 | 第33-36页 |
| 2.1.1 激光化学气相沉积法简介 | 第33-34页 |
| 2.1.2 激光化学气相沉积设备 | 第34-36页 |
| 2.2 原料制备 | 第36-40页 |
| 2.2.1 HDPM合成 | 第37-38页 |
| 2.2.2 YBCO及 CeO_2 前驱体合成 | 第38-40页 |
| 2.2.3 YBCO及 CeO_2 有机源制备 | 第40页 |
| 2.3 YBCO薄膜及CeO_2 缓冲层薄膜制备 | 第40-41页 |
| 2.4 薄膜测试方法 | 第41-45页 |
| 2.4.1 X射线衍射 | 第41-43页 |
| 2.4.2 场发射扫描及背散射电子显微镜 | 第43页 |
| 2.4.3 电感耦合等离子质谱 | 第43-45页 |
| 第三章 YBCO薄膜的制备工艺研究 | 第45-55页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 实验过程 | 第45-46页 |
| 3.2.1 实验原料 | 第45页 |
| 3.2.2 .实验过程 | 第45-46页 |
| 3.2.3 表征方法 | 第46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-53页 |
| 3.3.1 YBCO薄膜样品物相及微观结构分析 | 第46-51页 |
| 3.3.2 前驱体蒸发温度对薄膜样品的影响 | 第51页 |
| 3.3.3 后期制备YBCO薄膜比对分析 | 第51-53页 |
| 3.4 小结 | 第53-55页 |
| 第四章 CeO_2 缓冲层及YBCO超导层的制备研究 | 第55-71页 |
| 4.1 引言 | 第55-56页 |
| 4.2 实验过程 | 第56-57页 |
| 4.3 结果讨论 | 第57-69页 |
| 4.3.1 缓冲层CeO_2薄膜的研究 | 第57-65页 |
| 4.3.1.1 CeO_2薄膜晶相结构研究 | 第58-59页 |
| 4.3.1.2 CeO_2薄膜结晶度与面内取向研究 | 第59-62页 |
| 4.3.1.3 CeO_2薄膜的极图研究 | 第62-64页 |
| 4.3.1.4 CeO_2薄膜微观结构研究 | 第64-65页 |
| 4.3.2 超导层YBCO薄膜的研究 | 第65-69页 |
| 4.3.2.1 YBCO薄膜的物相、结晶度和面内取向研究. | 第66-67页 |
| 4.3.2.2 YBCO薄膜的微观结构研究 | 第67-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 5.1 结论 | 第71-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
