| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·各种显示技术对比介绍 | 第11-15页 |
| ·场发射显示器(FED) | 第15-21页 |
| ·FED的主要特点和发展状况 | 第15-17页 |
| ·FED的工作原理和基本结构 | 第17-18页 |
| ·FED的不同类型 | 第18-21页 |
| ·本论文的选题依据及意义 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-26页 |
| 第二章 场发射理论和碳纳米管介绍 | 第26-47页 |
| ·场发射的基础理论 | 第26-30页 |
| ·金属场发射理论 | 第26-28页 |
| ·半导体场发射理论 | 第28-29页 |
| ·纳米材料场发射理论 | 第29-30页 |
| ·碳纳米管介绍 | 第30-37页 |
| ·碳纳米管的发现、特点及分类 | 第31-34页 |
| ·碳纳米管的特性 | 第34-35页 |
| ·碳纳米管的应用 | 第35-37页 |
| ·碳纳米管的场发射特性 | 第37-42页 |
| ·碳纳米管场发射的机理 | 第37-38页 |
| ·碳纳米管场发射的F-N理论及其场发射性能的主要指标 | 第38-40页 |
| ·碳纳米管薄膜的场致发射特性 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 第三章 MWCNTs阴极薄膜制备及其场发射研究 | 第47-65页 |
| ·CNTs制备方法介绍 | 第47-49页 |
| ·CVD法制备MWCNTs实验 | 第49-52页 |
| ·实验材料和仪器设备 | 第49-50页 |
| ·MWCNTs制备实验 | 第50-52页 |
| ·MWCNTs薄膜阴极制备工艺及其场发射特性研究 | 第52-61页 |
| ·二电极MWCNTs薄膜阴极 | 第52-57页 |
| ·三电极MWCNTs薄膜阴极 | 第57-59页 |
| ·涂覆法制备的MWCNTS薄膜阴极 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 第四章 改性MWCNTs薄膜的场发射性能研究 | 第65-107页 |
| ·温度对MWCNTs薄膜场发射的影响 | 第65-80页 |
| ·MWCNTs薄膜电阻率的热敏特性测量 | 第65-72页 |
| ·MWCNTs薄膜的变温场发射实验 | 第72-79页 |
| ·小结 | 第79-80页 |
| ·激光烧蚀对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 | 第80-88页 |
| ·实验方案 | 第80-82页 |
| ·实验结果及讨论 | 第82-87页 |
| ·小结 | 第87-88页 |
| ·金属掺杂对MWCNTs薄膜场发射的影响 | 第88-101页 |
| ·Ni掺杂对碳纳米管薄膜阴极场发射性能的影响 | 第88-91页 |
| ·包覆或吸附Ti对MWCNTs薄膜场发射的影响 | 第91-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 参考文献 | 第102-107页 |
| 第五章 平栅极CNTs薄膜几何结构对场发射的影响 | 第107-118页 |
| ·模型计算 | 第108-110页 |
| ·平栅极几何结构 | 第108页 |
| ·模型计算 | 第108-110页 |
| ·结果分析 | 第110-116页 |
| ·沟槽倾角的影响 | 第110-112页 |
| ·阴、阳极间距的影响 | 第112-114页 |
| ·阴、栅极间距的影响 | 第114-115页 |
| ·阴、栅极高差的影响 | 第115-116页 |
| ·小结 | 第116-117页 |
| 参考文献 | 第117-118页 |
| 第六章 总结 | 第118-121页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122页 |