摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 项目背景介绍 | 第8-25页 |
·本章内容 | 第8页 |
·核酸芯片技术 | 第8-11页 |
·寡聚核苷酸芯片及其制备方法 | 第11-12页 |
·寡聚核苷酸芯片的探针设计与片基选择 | 第12-15页 |
·探针设计 | 第12-13页 |
·片基选择 | 第13-15页 |
·结论 | 第15页 |
·聚甲基丙烯酸甲酯材料介绍 | 第15-19页 |
·材料介绍 | 第15-18页 |
·结论 | 第18-19页 |
·聚甲基丙烯酸甲酯的表面处理方法 | 第19-22页 |
·正丁基锂法 | 第19页 |
·己二胺法 | 第19-20页 |
·紫外处理 | 第20-21页 |
·氧等离子体处理 | 第21-22页 |
·各种修饰方法的比较与选择 | 第22页 |
·本项目研究目的 | 第22-24页 |
·本章小结 | 第24-25页 |
第二章 PMMA 片基的表面处理、芯片制备及检测实验 | 第25-31页 |
·本章介绍 | 第25-26页 |
·研究思路 | 第25-26页 |
·预期目标 | 第26页 |
·聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的紫外活化 | 第26页 |
·EDC –SULFO-NHS 耦联反应 | 第26页 |
·对比实验一:改良己二胺法 | 第26-27页 |
·对比实验二:PDITC 玻片的制备 | 第27页 |
·点样与DNA 探针固定 | 第27-28页 |
·核酸纯化 | 第28-29页 |
·DNA 扩增与标记 | 第29页 |
·DNA 杂交 | 第29-30页 |
·杂交结果的扫描检测 | 第30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
第三章 PMMA 表面活化处理的表征实验 | 第31-35页 |
·本章内容 | 第31页 |
·研究思路 | 第31页 |
·预期目标 | 第31页 |
·表征方法一:结晶紫法 | 第31-32页 |
·表征方法二:水接触角检测 | 第32-33页 |
·表征方法三:扫描电镜检测 | 第33页 |
·表征方法四:XPS(X 光电子能谱)分析 | 第33-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第四章 结果与讨论 | 第35-41页 |
·本章内容 | 第35页 |
·核酸纯化与DNA 扩增结果 | 第35-36页 |
·DNA 芯片杂交扫描检测结果 | 第36-37页 |
·结晶紫法表征结果 | 第37页 |
·水接触角检测结果 | 第37-38页 |
·扫描电镜检测结果 | 第38-39页 |
·X 光电子能谱分析结果 | 第39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
第五章 全文总结 | 第41-43页 |
·主要结论 | 第41-42页 |
·研究展望 | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-45页 |
致谢 | 第45-46页 |
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第46-48页 |