| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·光纤的发展历程 | 第10-11页 |
| ·掺杂特种光纤的发展现状 | 第11-14页 |
| ·掺杂材料发展现状 | 第11-13页 |
| ·掺杂光纤制备工艺发展现状 | 第13-14页 |
| ·纳米材料掺杂特种光纤研究现状 | 第14页 |
| ·本文主要内容及研究意义 | 第14-16页 |
| 参考文献 | 第16-18页 |
| 第二章 掺InP纳米材料光纤的研制 | 第18-34页 |
| ·InP材料的性质 | 第18-21页 |
| ·纳米级Inp的晶体结构 | 第18-19页 |
| ·纳米级InP的能带 | 第19-20页 |
| ·纳米级InP的光吸收特性 | 第20-21页 |
| ·纳米材料制备方法概述 | 第21-25页 |
| ·低压气体中蒸发法 | 第21页 |
| ·溅射法 | 第21-22页 |
| ·微乳液法(反相胶束法) | 第22-23页 |
| ·溶胶-凝胶法(胶体化学法) | 第23-24页 |
| ·化学气相沉积法 | 第24-25页 |
| ·光纤预制棒的制作工艺 | 第25-28页 |
| ·光纤预制棒芯棒制造技术 | 第25-27页 |
| ·棒外气相沉积法(OVD) | 第25-26页 |
| ·轴向气相沉积法(VAD) | 第26页 |
| ·改进的化学气相沉积法(MCVD) | 第26-27页 |
| ·等离子气相沉积法(PCVD) | 第27页 |
| ·光纤预制棒外包层制造技术 | 第27-28页 |
| ·掺INP纳米材料光纤的研制 | 第28-31页 |
| ·预制棒制作 | 第28-30页 |
| ·掺InP纳米材料光纤的拉丝过程 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-34页 |
| 第三章 掺INP纳米微粒光纤的色散特性 | 第34-42页 |
| ·色散的概念 | 第34-35页 |
| ·材料色散 | 第34-35页 |
| ·波导色散 | 第35页 |
| ·单模光纤的色散 | 第35-37页 |
| ·掺INP纳米微粒光纤的色散分析 | 第37-40页 |
| ·实验测定 | 第37-38页 |
| ·掺杂微粒的量子尺寸效应 | 第38-39页 |
| ·掺InP纳米微粒光纤色散的计算 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 INP纳米内包层光纤中超连续谱的产生 | 第42-60页 |
| ·超连续谱产生的机理 | 第42-45页 |
| ·自相位调制(SPM)导致光谱展宽 | 第42-43页 |
| ·自相位调制(SPM)导致光谱展 | 第43-44页 |
| ·受激拉曼散射(SRS)致光谱展宽 | 第44-45页 |
| ·INP纳米内包层光纤中光波导特性 | 第45-53页 |
| ·InP纳米内包层光纤的结构 | 第45页 |
| ·阶跃光纤传输条件 | 第45-46页 |
| ·利用Maxwell方程分析光纤的基本模型 | 第46-51页 |
| ·有限元法分析InP纳米内包层光纤场分布 | 第51-53页 |
| ·INP纳米内包层光纤超连续谱实验 | 第53-56页 |
| ·实验装置 | 第53-54页 |
| ·实验结果及讨论 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 第五章 掺半导体INP纳米材料光纤的应用前景与展望 | 第60-63页 |
| ·慢光系统应用 | 第60页 |
| ·光纤放大器 | 第60-61页 |
| ·应用前景展望 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |