射频磁控溅射大尺寸ZnO:Al薄膜生长工艺及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·透明导电薄膜研究背景与意义 | 第10-14页 |
| ·ZnO薄膜及其掺杂体系 | 第11-12页 |
| ·SnO_2及其掺杂化合物 | 第12-13页 |
| ·氧化铟及氧化铟锡 | 第13-14页 |
| ·国内外在该方向的研究现状 | 第14-21页 |
| ·薄膜均匀性研究 | 第14-19页 |
| ·薄膜性能研究 | 第19-21页 |
| ·薄膜制备技术 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射技术 | 第22页 |
| ·脉冲激光沉积工艺 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶工艺 | 第22页 |
| ·真空蒸镀工艺 | 第22-23页 |
| ·课题研究的目的和内容 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 ZnO:Al薄膜的制备和性能表征 | 第25-30页 |
| ·ZnO:Al薄膜沉积系统 | 第25-26页 |
| ·薄膜样品制备 | 第26-27页 |
| ·薄膜结构性能表征 | 第27-29页 |
| ·X射线衍射分析 | 第27页 |
| ·SEM分析 | 第27-28页 |
| ·台阶仪（探针式膜厚测试仪） | 第28页 |
| ·薄膜光学性质分析 | 第28-29页 |
| ·薄膜电学性质分析 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 扫描溅射制备ZnO:Al薄膜均匀性分析 | 第30-36页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·衬底在靶材上方扫描模式 | 第30页 |
| ·薄膜均匀性分析 | 第30-34页 |
| ·膜厚均匀性 | 第31-32页 |
| ·电阻率均匀性 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 工艺参数对ZnO:Al薄膜性质的影响 | 第36-61页 |
| ·溅射功率对ZnO:Al薄膜性质的影响 | 第36-44页 |
| ·沉积速率分析 | 第36页 |
| ·ZnO:Al薄膜的结构性质 | 第36-40页 |
| ·ZnO:Al薄膜的电学性质 | 第40-41页 |
| ·ZnO:Al薄膜的光学性质 | 第41-44页 |
| ·衬底温度对ZnO:Al薄膜性质的影响 | 第44-51页 |
| ·沉积速率分析 | 第45页 |
| ·ZnO:Al薄膜的结构性质 | 第45-49页 |
| ·ZnO:Al薄膜的电学性质 | 第49-50页 |
| ·ZnO:Al薄膜的光学性质 | 第50-51页 |
| ·Ar气压对ZnO:Al薄膜性质的影响 | 第51-59页 |
| ·沉积速率分析 | 第52页 |
| ·ZnO:Al薄膜的结构性质 | 第52-56页 |
| ·ZnO:Al薄膜的电学性质 | 第56-57页 |
| ·ZnO:Al薄膜的光学性质 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
