低温前驱体裂解法合成碳化硼粉体的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·碳化硼的相组成与结构 | 第11-13页 |
| ·碳化硼性能 | 第13-15页 |
| ·物理和力学性能 | 第13-14页 |
| ·化学性能 | 第14-15页 |
| ·慢化中子的性能 | 第15页 |
| ·碳化硼粉末的制备方法及其优缺点 | 第15-22页 |
| ·碳管炉、电弧炉碳热还原法 | 第15-16页 |
| ·自蔓延合成法 | 第16-17页 |
| ·机械合金化法 | 第17-18页 |
| ·激光诱导化学气相沉积法(LICVD) | 第18-19页 |
| ·直接合成法 | 第19-20页 |
| ·溶剂热法 | 第20-21页 |
| ·前驱体裂解法 | 第21-22页 |
| ·碳化硼陶瓷的制备 | 第22-27页 |
| ·热压、热等静压(HIP)烧结 | 第22-23页 |
| ·无压烧结 | 第23-25页 |
| ·放电等离子烧结法(SPS) | 第25-26页 |
| ·反应烧结 | 第26-27页 |
| ·碳化硼的应用 | 第27-28页 |
| ·研究内容 | 第28-29页 |
| 第2章 前驱体裂解产物的实验设计 | 第29-45页 |
| ·制备工艺 | 第29-31页 |
| ·工艺流程 | 第31-32页 |
| ·实验设备 | 第32页 |
| ·裂解产物制备的正交设计 | 第32-43页 |
| ·硼源的选取 | 第33-34页 |
| ·碳源的选取 | 第34-37页 |
| ·羟基和硼酸摩尔比的确定 | 第37-39页 |
| ·反应温度的确定 | 第39页 |
| ·滴加速度的确定 | 第39页 |
| ·前驱体裂解温度的确定 | 第39-42页 |
| ·正交设计 | 第42-43页 |
| ·性能评价与表征 | 第43-44页 |
| ·热重分析(TGA) | 第43页 |
| ·傅立叶红外吸收光谱测(FTIR) | 第43页 |
| ·X光电子能谱测试(XPS) | 第43页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第43页 |
| ·扫描电子显微分析(SEM) | 第43-44页 |
| ·化学分析 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 前驱体裂解产物的制备及工艺优化 | 第45-60页 |
| ·前驱体的制备及分析 | 第45-47页 |
| ·前驱体裂解产物的制备 | 第47页 |
| ·前驱体裂解产物的组成 | 第47-53页 |
| ·前驱体裂解产物的元素组成 | 第47-49页 |
| ·前驱体裂解产物的相组成 | 第49-50页 |
| ·前驱体裂解产物及水洗后粉体微观形貌对比 | 第50-52页 |
| ·前驱体裂解产物的化学分析 | 第52-53页 |
| ·正交设计分析 | 第53-58页 |
| ·以产量为衡量标准 | 第53-56页 |
| ·以C与B_2O_3的摩尔比为衡量标准 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第4章 碳化硼(B_4C)粉体的制备 | 第60-74页 |
| ·烧结温度的确定 | 第60-70页 |
| ·吉布斯自由能及吉布斯自由能判据 | 第61页 |
| ·反应自发进行最低温度的估算 | 第61-62页 |
| ·热力学数据估算 | 第62-68页 |
| ·烧结温度的计算 | 第68-70页 |
| ·B_4C粉体制备 | 第70-72页 |
| ·B_4C粉体烧结温度制度 | 第70-71页 |
| ·B_4C粉体烧结气氛 | 第71页 |
| ·B_4C粉体的烧结制备 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第5章 碳化硼(B_4C)粉体性能分析 | 第74-83页 |
| ·B_4C粉体相组成分析 | 第74-76页 |
| ·B_4C粉体XPS分析 | 第76-78页 |
| ·B_4C粉体化学分析 | 第78-79页 |
| ·B_4C粉体微观形貌 | 第79-80页 |
| ·B_4C粉体粒径分析 | 第80-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 结论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-90页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
