| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜概述 | 第11-14页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的晶体结构及光电性能 | 第11-13页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·n型透明导电SnO_2薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·p型透明导电SnO_2薄膜的应用 | 第14页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的制备 | 第14-17页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第15页 |
| ·化学气相沉积法 | 第15-16页 |
| ·喷雾热解法 | 第16页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第16页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第16-17页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的研究进展 | 第17-19页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的n型掺杂研究进展 | 第17-18页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的p型掺杂研究进展 | 第18-19页 |
| ·本课题研究的目的、意义及内容 | 第19-21页 |
| 第2章 磁控溅射制备薄膜及表征 | 第21-32页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第21-23页 |
| ·溅射法的原理 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射技术 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射系统 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射的成膜过程 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-29页 |
| ·靶材的制备 | 第25-26页 |
| ·SnO_2靶材 | 第25页 |
| ·金属Al、Zn靶材 | 第25页 |
| ·SnO_2:Zn靶材 | 第25-26页 |
| ·石英基片的清洗 | 第26页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的制备 | 第26-29页 |
| ·SnO_2:Al多层薄膜的制备 | 第26-28页 |
| ·SnO_2:Zn多层薄膜的制备 | 第28页 |
| ·SnO_2:Zn单层薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的表征 | 第29-32页 |
| ·紫外—可见(UV-Vis)光谱测试 | 第29页 |
| ·霍尔(Hall)测试 | 第29-30页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第30页 |
| ·拉曼光谱(Raman)测试 | 第30-31页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第31页 |
| ·场发射扫描电镜(FESEM)及其能谱(EDX)测试 | 第31-32页 |
| 第3章 SnO_2:Al透明导电薄膜的性能研究 | 第32-46页 |
| ·SnO_2:Al多层薄膜的结构及性能表征 | 第32-45页 |
| ·SnO_2:Al多层薄膜的UV-Vis分析 | 第32-35页 |
| ·SnO_2:Al多层薄膜的Hall测试分析 | 第35-37页 |
| ·SnO_2:Al多层薄膜的XRD测试分析 | 第37-40页 |
| ·SnO_2:Al多层薄膜的Raman测试分析 | 第40-41页 |
| ·SnO_2:Al多层薄膜的FESEM测试分析 | 第41-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 SnO_2:Zn透明导电薄膜的性能研究 | 第46-56页 |
| ·SnO_2:Zn多层薄膜的结构及性能表征 | 第46-50页 |
| ·SnO_2:Zn多层薄膜的UV-Vis分析 | 第46-47页 |
| ·SnO_2:Zn多层薄膜的Hall测试分析 | 第47-49页 |
| ·SnO_2:Zn多层薄膜的XRD测试分析 | 第49-50页 |
| ·SnO_2:Zn单层薄膜的结构及性能表征 | 第50-55页 |
| ·SnO_2:Zn单层薄膜的UV-Vis分析 | 第50-51页 |
| ·SnO_2:Zn单层薄膜的Hall测试分析 | 第51-52页 |
| ·SnO_2:Zn单层薄膜的XRD测试分析 | 第52-54页 |
| ·SnO_2:Zn单层薄膜的AFM测试分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 发表论文目录 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |