ZnO稀磁半导体低维结构的制备和性能研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-43页 |
| ·稀磁半导体简介 | 第13-15页 |
| ·半导体自旋电子学 | 第13-14页 |
| ·稀磁半导体 | 第14-15页 |
| ·稀磁半导体的结构及基本性质 | 第15-16页 |
| ·稀磁半导体的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·稀磁半导体的能隙 | 第16页 |
| ·稀磁半导体的磁性的理论解释 | 第16-21页 |
| ·RKKY理论 | 第17页 |
| ·双交换理论 | 第17-19页 |
| ·超交换理论 | 第19-20页 |
| ·束缚磁极化子模型 | 第20-21页 |
| ·稀磁半导体的性质 | 第21-26页 |
| ·光吸收特性 | 第22-23页 |
| ·巨负磁阻效应 | 第23页 |
| ·绝缘体-金属转变 | 第23-24页 |
| ·霍尔效应 | 第24页 |
| ·居里温度 | 第24-26页 |
| ·稀磁半导体应用前景 | 第26-28页 |
| ·氧化物稀磁半导体研究进展 | 第28-40页 |
| ·TiO_2稀磁半导体研究进展 | 第28-30页 |
| ·SnO_2稀磁半导体 | 第30-33页 |
| ·In_2O_3稀磁半导体 | 第33-34页 |
| ·CuO稀磁半导体 | 第34页 |
| ·Cu_2O稀磁半导体 | 第34-35页 |
| ·ZnO稀磁半导体 | 第35-39页 |
| ·无掺杂氧化物稀磁半导体 | 第39-40页 |
| ·本课题选题意义和研究内容 | 第40-43页 |
| ·选题意义 | 第40-41页 |
| ·研究内容 | 第41-43页 |
| 第二章 实验研究方法 | 第43-49页 |
| ·样品制备方法 | 第43-44页 |
| ·水溶液化学合成晶体技术简介 | 第43-44页 |
| ·实验过程 | 第44页 |
| ·结构表征与物性测试 | 第44-47页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第44-45页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第45页 |
| ·X射线光电子谱(XPS) | 第45-46页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第46页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第46-47页 |
| ·实验原料及仪器 | 第47-49页 |
| ·实验原料 | 第47页 |
| ·实验设备及仪器 | 第47-49页 |
| 第三章 Mn掺杂ZnO体系研究 | 第49-67页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·样品制备 | 第49-50页 |
| ·实验结果 | 第50-61页 |
| ·表面形貌 | 第50-51页 |
| ·X射线衍射分析 | 第51-52页 |
| ·XPS测试结果 | 第52-54页 |
| ·荧光光谱测试 | 第54-58页 |
| ·磁学特性测试 | 第58-61页 |
| ·讨论分析 | 第61-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第四章 Ni掺杂ZnO体系研究 | 第67-85页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·样品制备 | 第67-69页 |
| ·结果 | 第69-79页 |
| ·表面形貌 | 第69-70页 |
| ·X射线衍射分析 | 第70-71页 |
| ·XPS测试结果 | 第71-72页 |
| ·荧光光谱测试 | 第72-76页 |
| ·磁学特性测试 | 第76-79页 |
| ·讨论分析 | 第79-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第五章 Cu掺杂ZnO体现研究 | 第85-103页 |
| ·引言 | 第85页 |
| ·样品制备 | 第85-87页 |
| ·结果 | 第87-97页 |
| ·表面形貌 | 第87-88页 |
| ·X射线衍射分析 | 第88-89页 |
| ·XPS测试结果 | 第89-90页 |
| ·荧光光谱测试 | 第90-94页 |
| ·磁学特性测试 | 第94-97页 |
| ·讨论分析 | 第97-101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 第六章 无掺杂ZnO体系研究 | 第103-111页 |
| ·引言 | 第103页 |
| ·样品制备 | 第103-104页 |
| ·结果与讨论 | 第104-109页 |
| ·表面形貌 | 第104页 |
| ·X射线衍射分析 | 第104-105页 |
| ·XPS测试结果 | 第105-106页 |
| ·荧光光谱测试 | 第106-108页 |
| ·磁学特性性测试 | 第108-109页 |
| ·讨论分析 | 第109-110页 |
| ·本章小结 | 第110-111页 |
| 第七章 结论与展望 | 第111-115页 |
| ·论文总结 | 第111-112页 |
| ·有待研究的问题 | 第112-113页 |
| ·展望 | 第113-115页 |
| 致谢 | 第115-117页 |
| 攻读博士学位期间论文发表和专利申请情况 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-129页 |
