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大面积光学级纳米金刚石薄膜制备的研究

摘要第5-7页
abstract第7-8页
第一章 绪论第11-21页
    1.1 纳米金刚石的结构第12-13页
    1.2 纳米金刚石特性及应用第13-16页
        1.2.1 纳米金刚石特性第13-14页
        1.2.2 纳米金刚石的性能应用第14-16页
    1.3 MPCVD法制备纳米金刚石膜第16-19页
        1.3.1 纳米金刚石膜生长机理第16-19页
    1.4 本文研究的目的意义以及研究内容第19-21页
第二章 实验装置及表征方法第21-29页
    2.1 实验设备第21-26页
        2.1.1 1kw石英钟罩式MPCVD设备第21-23页
        2.1.2 Woosinent-R2.0型MPCVD装置第23-25页
        2.1.3 自制75kW环形天线式MPCVD设备第25-26页
    2.2 纳米金刚石膜表征方法第26-29页
        2.2.1 激光拉曼光谱第26页
        2.2.2 X射线衍射第26-27页
        2.2.3 扫描电子显微镜第27页
        2.2.4 傅立叶红外光谱第27页
        2.2.5 等离子体发射光谱第27-29页
第三章 等离子体的放电特征研究第29-39页
    3.1 高气压对等离子体特征研究第29-34页
        3.1.1 气压对活性基团影响第29-31页
        3.1.2 气压对电子密度影响第31-32页
        3.1.3 气压变化对电子温度影响第32-34页
    3.2 高气压下微波功率对等离子体特征影响第34-37页
        3.2.1 功率对活性基团影响第34-35页
        3.2.2 功率对电子密度的影响第35-36页
        3.2.3 功率对电子温度影响第36-37页
    3.3 高气压下甲烷浓度等离子体特征研究第37-38页
    3.4 本章小结第38-39页
第四章 高气压条件下光学级纳米金刚石薄膜的可控性生长研究第39-61页
    3.1 形核密度对生长纳米金刚石膜的影响第39-44页
        3.1.1 形核密度对表明形貌的影响第39-41页
        3.1.2 形核密度对晶粒状态的影响第41-42页
        3.1.3 形核密度对薄膜应力的影响第42-44页
    3.2 纳米金刚石膜生长结构的控制研究第44-49页
        3.2.1 形貌及质量的控制研究第44-48页
        3.2.2 晶粒尺寸的控制研究第48-49页
    3.3 纳米金刚石膜透光率调控研究第49-58页
        3.3.1 气源状态对光透过率研究第49-52页
        3.3.2 纳米金刚石膜光学性能的调控研究第52-57页
        3.3.3 薄膜取向对透光率的影响研究第57-58页
    3.4 本章小结第58-61页
第五章 高气压高功率下生长大面积纳米金刚石薄膜的研究第61-73页
    5.1 高气压高功率下纳米金刚石膜均匀性的研究第62-66页
        5.1.1 大面积金刚石膜的表面形貌分析第62-63页
        5.1.2 大面积金刚石膜的质量分析第63-66页
    5.2 高气压高功率下氧气浓度对纳米金刚石膜结构质量的影响研究第66-70页
        5.2.1 氧气浓度对纳米金刚石膜形貌的影响第66-67页
        5.2.2 氧气浓度对纳米金刚石膜质量的影响第67-69页
        5.2.3 氧气浓度对纳米金刚石膜生长取向的影响第69-70页
    5.3 本章小结第70-73页
第六章 全文总结及展望第73-75页
论文创新点第75-77页
参考文献第77-83页
攻读硕士期间已发表的论文第83-85页
致谢第85页

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