摘要 | 第11-12页 |
Abstract | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第14-40页 |
1.1 引言 | 第14-15页 |
1.2 磁性材料 | 第15-16页 |
1.3 磁学理论 | 第16-22页 |
1.3.1 基本理论 | 第17-18页 |
1.3.2 磁畴结构 | 第18-19页 |
1.3.3 磁化过程 | 第19-21页 |
1.3.4 磁畴理论 | 第21-22页 |
1.4 磁各向异性 | 第22-25页 |
1.4.1 磁各向异性的种类 | 第22-23页 |
1.4.2 磁各向异性的测量 | 第23-25页 |
1.5 平面霍尔效应 | 第25-30页 |
1.5.1 平面霍尔效应磁传感器 | 第26-28页 |
1.5.2 平面霍尔效应磁性随机存储器 | 第28-29页 |
1.5.3 平面霍尔效应表征磁学现象 | 第29-30页 |
1.6 本论文研究的主要工作 | 第30-32页 |
1.6.1 研究目的 | 第30页 |
1.6.2 研究思路 | 第30-31页 |
1.6.3 主要内容 | 第31-32页 |
参考文献 | 第32-40页 |
第二章 样品的制备与表征 | 第40-50页 |
2.1 薄膜的制备 | 第40-44页 |
2.1.1 多靶磁控溅射薄膜沉积系统 | 第40-43页 |
2.1.2 实验仪器、试剂与靶材 | 第43-44页 |
2.2 薄膜的结构和成分表征 | 第44-45页 |
2.2.1 薄膜厚度测量 | 第44页 |
2.2.2 薄膜形貌分析 | 第44-45页 |
2.2.3 薄膜成分表征 | 第45页 |
2.3 薄膜的磁学性质测量 | 第45-46页 |
2.4 薄膜的电输运性质测量 | 第46-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
第三章 Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的面内磁各向异性调控 | 第50-64页 |
3.1 引言 | 第50-51页 |
3.2 实验方法 | 第51-52页 |
3.3 薄膜厚度对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜面内磁各向异性的影响 | 第52-57页 |
3.3.1 结构和形貌分析 | 第52-54页 |
3.3.2 静态磁学性能分析 | 第54-57页 |
3.4 倾斜溅射角度对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜面内磁各向异性的影响 | 第57-60页 |
3.4.1 结构和形貌分析 | 第57-59页 |
3.4.2 静态磁学性能分析 | 第59-60页 |
3.5 本章小结 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
第四章 Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的平面霍尔效应研究 | 第64-78页 |
4.1 引言 | 第64-65页 |
4.2 实验方法 | 第65-66页 |
4.3 外加磁场对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的平面霍尔效应的影响 | 第66-72页 |
4.3.1 外加磁场的大小对平面霍尔效应的影响 | 第66-69页 |
4.3.2 外加磁场的方向对平面霍尔效应的影响 | 第69-72页 |
4.4 电流对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的平面霍尔效应的影响 | 第72-73页 |
4.4.1 电流的大小对平面霍尔效应的影响 | 第72-73页 |
4.4.2 电流与易磁化轴的角度对平面霍尔效应的影响 | 第73页 |
4.5 本章小结 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-78页 |
第五章 PHE 表征单轴磁各向异性Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的面内磁化过程 | 第78-94页 |
5.1 引言 | 第78-79页 |
5.2 实验方法 | 第79页 |
5.3 理论预测 | 第79-81页 |
5.4 Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜随样品旋转角度变化的磁化过程 | 第81-84页 |
5.4.1 0≤h<0.5 | 第82-83页 |
5.4.2 0.5≤h≤1 | 第83页 |
5.4.3 1第83-84页 | |
5.5 Fe_(8)Ni_(20)-O薄膜随外加磁场变化的磁化过程 | 第84-85页 |
5.5.1 φ=0° | 第84-85页 |
5.5.2 0°<φ<90° | 第85页 |
5.5.3 φ=90° | 第85页 |
5.6 实验论证 | 第85-90页 |
5.6.1 静态磁学性质分析 | 第86-88页 |
5.6.2 电学性质拟合 | 第88-90页 |
5.7 本章小结 | 第90-92页 |
参考文献 | 第92-94页 |
第六章 总结 | 第94-96页 |
硕士期间发表论文 | 第96-97页 |
致谢 | 第97-98页 |