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面内单轴磁各向异性薄膜的平面霍尔效应研究

摘要第11-12页
Abstract第12-13页
第一章 绪论第14-40页
    1.1 引言第14-15页
    1.2 磁性材料第15-16页
    1.3 磁学理论第16-22页
        1.3.1 基本理论第17-18页
        1.3.2 磁畴结构第18-19页
        1.3.3 磁化过程第19-21页
        1.3.4 磁畴理论第21-22页
    1.4 磁各向异性第22-25页
        1.4.1 磁各向异性的种类第22-23页
        1.4.2 磁各向异性的测量第23-25页
    1.5 平面霍尔效应第25-30页
        1.5.1 平面霍尔效应磁传感器第26-28页
        1.5.2 平面霍尔效应磁性随机存储器第28-29页
        1.5.3 平面霍尔效应表征磁学现象第29-30页
    1.6 本论文研究的主要工作第30-32页
        1.6.1 研究目的第30页
        1.6.2 研究思路第30-31页
        1.6.3 主要内容第31-32页
    参考文献第32-40页
第二章 样品的制备与表征第40-50页
    2.1 薄膜的制备第40-44页
        2.1.1 多靶磁控溅射薄膜沉积系统第40-43页
        2.1.2 实验仪器、试剂与靶材第43-44页
    2.2 薄膜的结构和成分表征第44-45页
        2.2.1 薄膜厚度测量第44页
        2.2.2 薄膜形貌分析第44-45页
        2.2.3 薄膜成分表征第45页
    2.3 薄膜的磁学性质测量第45-46页
    2.4 薄膜的电输运性质测量第46-48页
    参考文献第48-50页
第三章 Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的面内磁各向异性调控第50-64页
    3.1 引言第50-51页
    3.2 实验方法第51-52页
    3.3 薄膜厚度对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜面内磁各向异性的影响第52-57页
        3.3.1 结构和形貌分析第52-54页
        3.3.2 静态磁学性能分析第54-57页
    3.4 倾斜溅射角度对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜面内磁各向异性的影响第57-60页
        3.4.1 结构和形貌分析第57-59页
        3.4.2 静态磁学性能分析第59-60页
    3.5 本章小结第60-62页
    参考文献第62-64页
第四章 Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的平面霍尔效应研究第64-78页
    4.1 引言第64-65页
    4.2 实验方法第65-66页
    4.3 外加磁场对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的平面霍尔效应的影响第66-72页
        4.3.1 外加磁场的大小对平面霍尔效应的影响第66-69页
        4.3.2 外加磁场的方向对平面霍尔效应的影响第69-72页
    4.4 电流对Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的平面霍尔效应的影响第72-73页
        4.4.1 电流的大小对平面霍尔效应的影响第72-73页
        4.4.2 电流与易磁化轴的角度对平面霍尔效应的影响第73页
    4.5 本章小结第73-75页
    参考文献第75-78页
第五章 PHE 表征单轴磁各向异性Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜的面内磁化过程第78-94页
    5.1 引言第78-79页
    5.2 实验方法第79页
    5.3 理论预测第79-81页
    5.4 Fe_(80)Ni_(20)-O薄膜随样品旋转角度变化的磁化过程第81-84页
        5.4.1 0≤h<0.5第82-83页
        5.4.2 0.5≤h≤1第83页
        5.4.3 1第83-84页
    5.5 Fe_(8)Ni_(20)-O薄膜随外加磁场变化的磁化过程第84-85页
        5.5.1 φ=0°第84-85页
        5.5.2 0°<φ<90°第85页
        5.5.3 φ=90°第85页
    5.6 实验论证第85-90页
        5.6.1 静态磁学性质分析第86-88页
        5.6.2 电学性质拟合第88-90页
    5.7 本章小结第90-92页
    参考文献第92-94页
第六章 总结第94-96页
硕士期间发表论文第96-97页
致谢第97-98页

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