| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| §1.1 前言 | 第9页 |
| §1.2 有机半导体的研究发展 | 第9-11页 |
| §1.3 N-型有机半导体的空气不稳定性问题 | 第11-17页 |
| 1.3.1 含酰亚胺基团的n-型有机半导体小分子 | 第11-14页 |
| 1.3.2 含F的n-型有机半导体小分子 | 第14-17页 |
| §1.4 N-型有机半导体的电子迁移率问题 | 第17页 |
| §1.5 本文研究工作的立题思想 | 第17-22页 |
| 第二章 萘酰亚胺、双溴取代和双氰基取代萘酰亚胺的合成与性质表征 | 第22-41页 |
| §2.1 合成路线 | 第22-23页 |
| 2.1.1 2,3-萘酰亚胺的合成路线 | 第22页 |
| 2.1.2 6,7-二溴-2,3-萘酰亚胺的合成路线 | 第22-23页 |
| 2.1.3 6,7-二氰基-2,3-萘酰亚胺的合成路线 | 第23页 |
| §2.2 结果与讨论 | 第23-35页 |
| 2.2.1 核磁与X-ray单晶衍射分析 | 第23-29页 |
| 2.2.2 紫外-可见吸收光谱和荧光发射光谱表征 | 第29-31页 |
| 2.2.3 循环伏安电化学表征 | 第31-33页 |
| 2.2.4 DFT计算表征 | 第33-35页 |
| §2.3 总结 | 第35-36页 |
| §2.4 实验部分 | 第36-41页 |
| 2.4.1 试剂处理和实验装置 | 第36页 |
| 2.4.2 实验步骤 | 第36-41页 |
| 第三章 立体三叶萘酰亚胺和共平面四叶萘酰亚胺的合成与性质表征 | 第41-59页 |
| §3.1 合成路线 | 第41-42页 |
| 3.1.1 立体三叶萘酰亚胺的合成路线 | 第41-42页 |
| 3.1.2 共平面四叶萘酰亚胺的合成路线 | 第42页 |
| §3.2 结果与讨论 | 第42-53页 |
| 3.2.1 核磁与X-ray单晶衍射分析 | 第43-48页 |
| 3.2.2 紫外-可见吸收光谱和荧光发射光谱表征 | 第48-50页 |
| 3.2.3 循环伏安电化学表征 | 第50-51页 |
| 3.2.4 DFT计算表征 | 第51-53页 |
| §3.3 总结 | 第53-54页 |
| §3.4 实验部分 | 第54-59页 |
| 3.4.1 试剂处理和实验装置 | 第54页 |
| 3.4.2 实验步骤 | 第54-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
