基于金属基底可控制备氮掺杂碳纳米管及其阴极性能的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1 碳纳米管概述 | 第9-16页 |
| 1.1 碳纳米管分类 | 第9-11页 |
| 1.2 碳纳米管性质 | 第11页 |
| 1.3 碳纳米管制备 | 第11-12页 |
| 1.4 碳纳米管应用 | 第12-14页 |
| 1.5 场致发射 | 第14-16页 |
| 1.5.1 场致发射定义 | 第14-15页 |
| 1.5.2 场发射原理 | 第15-16页 |
| 2 氮掺杂碳纳米管的研究进展 | 第16-17页 |
| 2.1 氮掺杂碳纳米管的制备 | 第16-17页 |
| 2.2 氮掺杂碳纳米管的应用 | 第17页 |
| 2.3 氮掺杂碳纳米管场发射 | 第17页 |
| 3 本文研究内容与意义 | 第17-19页 |
| 第二章 金属基底直接生长制备NCNT | 第19-29页 |
| 1 CVD法制备氮掺杂碳纳米管 | 第19-24页 |
| 1.1 CVD法碳纳米管生长机制 | 第19-20页 |
| 1.2 CVD法生长过程 | 第20-21页 |
| 1.3 CVD法主要影响因素 | 第21-22页 |
| 1.4 化学气相沉积法制备NCNT具体过程 | 第22-24页 |
| 1.4.1 主要实验仪器 | 第22-23页 |
| 1.4.2 CVD法沉积过程 | 第23-24页 |
| 2 阳极化技术 | 第24-29页 |
| 2.1 阳极化实验原理 | 第24-26页 |
| 2.2 金属基底阳极化过程 | 第26-29页 |
| 2.2.1 主要仪器设备 | 第26页 |
| 2.2.2 主要实验试剂 | 第26-27页 |
| 2.2.3 阳极化过程 | 第27-29页 |
| 第三章 氮掺杂碳纳米管表征及性能测试 | 第29-35页 |
| 1 氮掺杂碳纳米管的表征手段 | 第29-31页 |
| 1.1 扫描电子显微镜 | 第29页 |
| 1.2 透射电子显微镜 | 第29-30页 |
| 1.3 拉曼光谱 | 第30-31页 |
| 1.4 X射线光电子能谱曼 | 第31页 |
| 2 碳纳米管性能测试 | 第31-35页 |
| 2.1 附着力 | 第31-32页 |
| 2.2 表面电阻 | 第32页 |
| 2.3 场发射 | 第32-35页 |
| 第四章 实验结果和分析 | 第35-45页 |
| 1 氮掺杂碳纳米管表征和分析 | 第35-40页 |
| 1.1 碳纳米管形貌特点 | 第35-37页 |
| 1.2 碳纳米管晶体性 | 第37-38页 |
| 1.3 X射线光电子能谱 | 第38-39页 |
| 1.4 小结 | 第39-40页 |
| 2 氮掺杂碳纳米管性能测试结果 | 第40-45页 |
| 2.1 附着力和表面电阻测试 | 第40-41页 |
| 2.2 场发射性能测试 | 第41-43页 |
| 2.3 小结 | 第43-45页 |
| 总结与展望 | 第45-47页 |
| 1 总结 | 第45页 |
| 2 展望 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 致谢 | 第51-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第53页 |
