| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题的背景及研究的目的意义 | 第8-9页 |
| 1.2 PQ/PMMA聚合物材料的研究进展 | 第9-14页 |
| 1.3 全息记录与再现原理 | 第14-15页 |
| 1.4 本课题的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 PQ/PMMA的制备改进及光化学反应过程研究 | 第17-26页 |
| 2.1 引言 | 第17-18页 |
| 2.2 PQ/PMMA聚合物材料样品的制备 | 第18-21页 |
| 2.2.1 PQ/PMMA聚合物材料样品制备的原料成分 | 第18-19页 |
| 2.2.2 PQ/PMMA聚合物材料样品的制备过程 | 第19-21页 |
| 2.3 PQ/PMMA聚合物材料的吸收谱 | 第21页 |
| 2.4 PQ/PMMA聚合物材料的光化学反应动力学过程 | 第21-25页 |
| 2.4.1 PQ/PMMA材料材料的光化学反应过程 | 第21-23页 |
| 2.4.2 PQ/PMMA聚合物的局域响应 | 第23-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 脉冲光曝光下PQ/PMMA聚合物材料的光学特性研究 | 第26-42页 |
| 3.1 引言 | 第26-27页 |
| 3.2 PQ/PMMA聚合物材料暗扩散增强效应的研究 | 第27-30页 |
| 3.2.1 单脉冲曝光下PQ/PMMA光致聚合物材料的暗反应过程研究 | 第27-29页 |
| 3.2.2 多脉冲曝光下PQ/PMMA光致聚合物材料的暗反应过程研究 | 第29-30页 |
| 3.3 短时间曝光下光栅形成过程 | 第30-33页 |
| 3.3.1 短时间曝光下的光致聚合过程 | 第30-32页 |
| 3.3.2 短时间曝光后的暗扩散增强过程 | 第32页 |
| 3.3.3 单脉冲曝光下的光栅增强 | 第32-33页 |
| 3.4 单光栅性能改善研究 | 第33-41页 |
| 3.4.1 入射角对光栅性能的影响 | 第33-34页 |
| 3.4.2 脉冲频率对光栅性能的影响 | 第34-36页 |
| 3.4.3 多脉冲曝光时全息光栅的动态过程 | 第36-38页 |
| 3.4.4 多脉冲曝光下材料内部的扩散过程 | 第38-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 脉冲光曝光下全息图的记录与再现 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 PQ/PMMA聚合物材料的全息记录与再现 | 第43-49页 |
| 4.2.1 PQ/PMMA聚合物材料的记录与再现原理 | 第43-44页 |
| 4.2.2 PQ/PMMA聚合物材料记录金属丝的再现图 | 第44-46页 |
| 4.2.3 PQ/PMMA聚合物材料记录静态粒子场的再现图 | 第46-49页 |
| 4.3 实验误差分析 | 第49-53页 |
| 4.3.1 脉冲激光器引入的误差 | 第49-52页 |
| 4.3.2 本底噪声引入的误差 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
