| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 过渡族金属硫族化合物的简介 | 第13-16页 |
| 1.2 高压物理学简介 | 第16-21页 |
| 1.2.1 高压物理学的发展历程与应用 | 第16-17页 |
| 1.2.2 静高压实验技术简介 | 第17-19页 |
| 1.2.3 金刚石对顶砧压机简介 | 第19-21页 |
| 1.3 材料内部结构特性的测定方法 | 第21-24页 |
| 1.3.1 X射线衍射同步辐射技术 | 第21-22页 |
| 1.3.2 拉曼散射光谱学基本原理 | 第22-24页 |
| 1.4 论文的选题目的和意义 | 第24-25页 |
| 1.5 论文各部分的主要内容 | 第25-27页 |
| 第2章 样品的制备,表征及高压实验方法 | 第27-37页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 二硒化钨薄层样品的制备 | 第27-28页 |
| 2.3 二硒化钨样品的表征以及层数的确认 | 第28-33页 |
| 2.3.1 表征二硒化钨层数的方法 | 第28-29页 |
| 2.3.2 二硒化钨的拉曼光谱 | 第29-33页 |
| 2.4 高压实验样品封装方法 | 第33-37页 |
| 第三章 单层二硒化钨的高压研究 | 第37-51页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 单层二硒化钨的高压荧光研究 | 第37-39页 |
| 3.2.1 实验条件与参数 | 第37-38页 |
| 3.2.2 单层二硒化钨的高压荧光光谱 | 第38-39页 |
| 3.3 单层二硒化钨的第一性原理计算 | 第39-41页 |
| 3.3.1 计算方法 | 第39页 |
| 3.3.2 单层二硒化钨的高压能带结构 | 第39-41页 |
| 3.4 单层二硒化钨的高压拉曼研究 | 第41-45页 |
| 3.4.1 实验条件与参数 | 第41-42页 |
| 3.4.2 单层二硒化钨的高压拉曼光谱 | 第42-45页 |
| 3.5 单层二硒化钨在金刚石衬底下的高压拉曼研究 | 第45-48页 |
| 3.5.1 实验条件与参数 | 第45-46页 |
| 3.5.2 单层二硒化钨在金刚石衬底上的高压拉曼光谱 | 第46-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-51页 |
| 第4章 体材料二硒化钨的高压研究 | 第51-67页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 体材料WSe_2的高压同步辐射研究 | 第51-58页 |
| 4.2.1 实验条件与参数 | 第51-52页 |
| 4.2.2 体材料二硒化钨的高压X射线衍射谱 | 第52-58页 |
| 4.3 体材料WSe_2的高压拉曼光谱研究 | 第58-65页 |
| 4.3.1 实验条件与参数 | 第58页 |
| 4.3.2 体材料二硒化钨的高压拉曼光谱 | 第58-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 多层二硒化钨的高压研究 | 第67-101页 |
| 5.1 引言 | 第67页 |
| 5.2 双层二硒化钨的高压拉曼光谱研究 | 第67-74页 |
| 5.2.1 实验条件与参数 | 第67-68页 |
| 5.2.2 双层二硒化钨的高压拉曼光谱 | 第68-74页 |
| 5.3 三层二硒化钨的高压拉曼光谱研究 | 第74-78页 |
| 5.3.1 实验条件与参数 | 第74页 |
| 5.3.2 三层二硒化钨的高压拉曼光谱 | 第74-78页 |
| 5.4 四层二硒化钨的高压拉曼光谱研究 | 第78-83页 |
| 5.4.1 实验条件与参数 | 第78-79页 |
| 5.4.2 四层二硒化钨的高压拉曼光谱 | 第79-83页 |
| 5.5 五层二硒化钨的高压拉曼光谱研究 | 第83-89页 |
| 5.5.1 实验条件与参数 | 第83-84页 |
| 5.5.2 五层二硒化钨的高压拉曼光谱 | 第84-89页 |
| 5.6 六层二硒化钨的高压拉曼光谱研究 | 第89-94页 |
| 5.6.1 实验条件与参数 | 第89-90页 |
| 5.6.2 六层二硒化钨的高压拉曼光谱 | 第90-94页 |
| 5.7 二硒化钨体系在高压下的物理性能研究 | 第94-100页 |
| 5.7.1 层间相互作用对结构稳定性的影响 | 第94-96页 |
| 5.7.2 二硒化钨的力常数与弹性常数 | 第96-100页 |
| 5.8 本章小结 | 第100-101页 |
| 总结与展望 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-118页 |
| 作者简介 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120页 |