| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 符号 | 第12-15页 |
| 第1章 前言 | 第15-27页 |
| 1.1 引言 | 第15页 |
| 1.2 喷墨打印 | 第15-17页 |
| 1.2.1 喷墨打印技术简介 | 第15页 |
| 1.2.2 国内外陶瓷墨水的发展 | 第15-16页 |
| 1.2.3 陶瓷喷墨打印技术问题 | 第16-17页 |
| 1.3 硅酸锆基陶瓷墨水 | 第17-20页 |
| 1.3.1 制备方法 | 第17-19页 |
| 1.3.2 陶瓷墨水主要技术要求 | 第19-20页 |
| 1.4 亚微米悬浮液的分散稳定性 | 第20-23页 |
| 1.4.1 颗粒的分散稳定理论 | 第20-22页 |
| 1.4.2 分散试验 | 第22-23页 |
| 1.5 亚微米悬浮液中颗粒分散和团聚行为的模拟 | 第23-25页 |
| 1.6 本论文的研究意义与内容 | 第25-27页 |
| 第2章 镨掺杂硅酸锆亚微米水基悬浮液的超细研磨制备的试验研究 | 第27-40页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 原料与设备 | 第27-28页 |
| 2.2.1 试验原料 | 第27-28页 |
| 2.2.2 试验设备 | 第28页 |
| 2.3 试验方法 | 第28-29页 |
| 2.4 表征方法 | 第29页 |
| 2.4.1 粒度分布 | 第29页 |
| 2.4.2 Lab值 | 第29页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第29-38页 |
| 2.5.1 研磨时间对镨掺杂硅酸锆色料的结晶度和色度影响 | 第29-31页 |
| 2.5.2 悬浮液组成对研磨效果的影响 | 第31-32页 |
| 2.5.3 磨介尺寸及其填充率对研磨效果的影响 | 第32-34页 |
| 2.5.4 搅拌线速度对研磨效果的影响 | 第34-35页 |
| 2.5.5 正交试验优化研磨参数 | 第35-38页 |
| 2.6 本章小结 | 第38-40页 |
| 第3章 超细研磨中颗粒的粉碎行为的模拟分析 | 第40-47页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 模型展开 | 第40-41页 |
| 3.3 试验方法 | 第41页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第41-46页 |
| 3.4.1 优化研磨参数下的Kapur函数 | 第41-42页 |
| 3.4.2 研磨机制分析 | 第42-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 制备的镨掺杂硅酸锆亚微米水基悬浮液的分散稳定性试验研究 | 第47-55页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 试验设备及试剂 | 第47-48页 |
| 4.2.1 试验设备 | 第47页 |
| 4.2.2 试验试剂 | 第47-48页 |
| 4.3 试验步骤 | 第48页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第48-54页 |
| 4.4.1 无机盐对亚微米悬浮液分散稳定性的影响 | 第48-49页 |
| 4.4.2 离子型有机小分子表面活性剂对亚微米悬浮液分散稳定性影响 | 第49-52页 |
| 4.4.3 非离子型表面活性剂对亚微米悬浮液分散稳定性的影响 | 第52-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 镨掺杂硅酸锆亚微米水基悬浮液的分散和团聚行为的模拟分析 | 第55-72页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 模型展开 | 第55-59页 |
| 5.2.1 颗粒团聚PBM表达式 | 第55-56页 |
| 5.2.2 核函数 | 第56-58页 |
| 5.2.3 模型修正 | 第58-59页 |
| 5.3 设备与材料 | 第59页 |
| 5.3.1 试验设备 | 第59页 |
| 5.3.2 试验试剂 | 第59页 |
| 5.4 试验步骤 | 第59-60页 |
| 5.5 结果与讨论 | 第60-70页 |
| 5.5.1 添加SDBS下团聚试验 | 第60-66页 |
| 5.5.2 添加KCl下团聚试验 | 第66-70页 |
| 5.6 本章小结 | 第70-72页 |
| 结论与展望 | 第72-74页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-85页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 附件 | 第87页 |
