高能束熔化TC4合金微熔池内元素挥发的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 课题的研究背景及目的意义 | 第10页 |
| 1.2 高能束熔炼的特点 | 第10-14页 |
| 1.2.1 激光直接制造技术 | 第11-12页 |
| 1.2.2 激光选区熔化技术 | 第12页 |
| 1.2.3 电子束熔炼 | 第12-14页 |
| 1.3 元素挥发的热力学研究现状 | 第14-20页 |
| 1.3.1 二元熔液模型 | 第15-17页 |
| 1.3.2 三元合金熔液模型 | 第17-19页 |
| 1.3.3 金属的可挥发性 | 第19-20页 |
| 1.4 元素挥发动力学的研究现状 | 第20-25页 |
| 1.4.1 液相中的迁移 | 第20-22页 |
| 1.4.2 界面处的挥发反应 | 第22页 |
| 1.4.3 气相阶段的迁移 | 第22-24页 |
| 1.4.4 分子在冷凝壁的冷凝 | 第24-25页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第25-26页 |
| 第2章 元素挥发的模型 | 第26-41页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 热力学模型 | 第26-33页 |
| 2.2.1 二元合金组元的活度系数 | 第26-28页 |
| 2.2.2 三元溶液各组元的活度系数 | 第28-32页 |
| 2.2.3 熔体中各组元的饱和蒸汽压 | 第32-33页 |
| 2.3 动力学模型 | 第33-36页 |
| 2.3.1 元素挥发的过程 | 第33-34页 |
| 2.3.2 液相阶段的传质 | 第34页 |
| 2.3.3 在熔体表面发生气化反应并扩散到气相中 | 第34-35页 |
| 2.3.4 挥发组元的冷凝壁的凝结 | 第35-36页 |
| 2.4 挥发组元扩散的数学模型 | 第36-38页 |
| 2.5 差分法的主要思想 | 第38-40页 |
| 2.5.1 计算区域的网格剖分 | 第38-39页 |
| 2.5.2 计算方程 | 第39-40页 |
| 2.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 计算结果 | 第41-62页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 外压对扩散过程的影响 | 第41-57页 |
| 3.2.1 2200K 时真空室浓度分布 | 第41-45页 |
| 3.2.2 2150K 时真空室浓度分布 | 第45-49页 |
| 3.2.3 2100K 时真空室浓度分布 | 第49-53页 |
| 3.2.4 2050K 时真空室浓度分布 | 第53-57页 |
| 3.3 不同温度下的挥发速率 | 第57-60页 |
| 3.3.1 熔体温度 2200K 时的挥发速率 | 第57-58页 |
| 3.3.2 熔体温度 2150K 时的挥发速率 | 第58页 |
| 3.3.3 熔体温度 2100K 时的挥发速率 | 第58-59页 |
| 3.3.4 熔体温度 2050K 时的挥发速率 | 第59-60页 |
| 3.4 外压对传质系数的影响 | 第60-61页 |
| 3.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第4章 实验验证 | 第62-70页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 电子束熔炼实验 | 第62-66页 |
| 4.2.1 电子束熔炼实验方案 | 第62-64页 |
| 4.2.2 实验结果 | 第64页 |
| 4.2.3 理论计算结果 | 第64-65页 |
| 4.2.4 对比与分析 | 第65-66页 |
| 4.3 激光熔炼实验 | 第66-69页 |
| 4.3.1 激光熔炼实验方案 | 第66-67页 |
| 4.3.2 实验结果 | 第67-68页 |
| 4.3.3 理论计算结果 | 第68页 |
| 4.3.4 对比与分析 | 第68-69页 |
| 4.4 本章结论 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
