| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 吸气材料 | 第10-12页 |
| 1.2.1 吸气材料定义 | 第10页 |
| 1.2.2 吸气材料分类 | 第10-12页 |
| 1.3 吸气理论 | 第12-15页 |
| 1.3.1 吸气原理 | 第12页 |
| 1.3.2 吸气动力学 | 第12-15页 |
| 1.4 吸气材料的激活与再生 | 第15-17页 |
| 1.4.1 吸气材料的激活 | 第15-16页 |
| 1.4.2 吸气材料的再生 | 第16-17页 |
| 1.5 薄膜吸气材料的研究与发展概况 | 第17-22页 |
| 1.5.1 薄膜吸气材料的简介 | 第17页 |
| 1.5.2 薄膜吸气材料的应用 | 第17-18页 |
| 1.5.3 薄膜吸气材料的制备 | 第18-20页 |
| 1.5.4 薄膜吸气材料的研究现状 | 第20-22页 |
| 1.5.5 薄膜吸气材料的发展趋势及存在的问题 | 第22页 |
| 1.6 课题意义及研究内容 | 第22-24页 |
| 1.6.1 课题意义 | 第22-23页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第23-24页 |
| 2 实验方案 | 第24-28页 |
| 2.1 课题研究方案 | 第24页 |
| 2.2 薄膜的分析与表征 | 第24-28页 |
| 2.2.1 组分表征 | 第24-25页 |
| 2.2.2 形貌和结构分析 | 第25页 |
| 2.2.3 吸气性能测试 | 第25-28页 |
| 3 Zr-Co-Ce吸气剂薄膜的制备工艺及性能研究 | 第28-45页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 样品制备 | 第28-29页 |
| 3.3 工艺参数对薄膜结构与性能的影响 | 第29-43页 |
| 3.3.1 溅射气压对薄膜结构和性能的影响 | 第29-32页 |
| 3.3.2 溅射功率对薄膜结构与性能的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.3 背底真空对薄膜结构与性能的影响 | 第34-39页 |
| 3.3.4 靶基距对薄膜结构与性能的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.5 溅射时间对薄膜结构与性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 4 Zr-Co-Ce吸气剂薄膜的结构与性能优化研究 | 第45-54页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 阻挡层的制备与表征 | 第45-47页 |
| 4.3 保护层的制备与表征 | 第47-52页 |
| 4.3.1 不同金属保护层薄膜的结构与性能 | 第48-50页 |
| 4.3.2 不同厚度Pd保护层的结构与性能 | 第50-52页 |
| 4.3.3 Pd保护层的作用机理分析 | 第52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 5 Zr-Co-Ce吸气剂薄膜的图型化工艺 | 第54-63页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 薄胶光刻工艺效果 | 第54-55页 |
| 5.3 厚胶光刻工艺效果 | 第55-62页 |
| 5.3.1 厚胶光刻工艺条件的优化研究 | 第56-59页 |
| 5.3.2 厚胶光刻工艺对薄膜吸气性能的影响 | 第59-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读硕士学位期间获得的奖励和学术成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |