| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2 普通光学显微镜分辨率的衍射极限 | 第12-14页 |
| 1.2.1 阿贝定律 | 第13页 |
| 1.2.2 瑞利判据 | 第13-14页 |
| 1.2.3 半高全宽FWHM | 第14页 |
| 1.3 现有超分辨方法研究现状 | 第14-18页 |
| 1.3.1 基于单分子定位技术的超分辨显微成像方法 | 第15-16页 |
| 1.3.2 基于特殊强度分布照明光场的超分辨显微成像方法 | 第16-18页 |
| 1.4 SIM国内外研究现状 | 第18-20页 |
| 1.5 论文主要研究内容及结构安排 | 第20-23页 |
| 第2章 结构光照明显微技术 | 第23-31页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 结构光照明显微技术突破衍射极限的原理 | 第23-26页 |
| 2.3 超分辨图像重构 | 第26-30页 |
| 2.3.1 现有频谱分离方法 | 第26-29页 |
| 2.3.1.1 四相位线性分离 | 第27-28页 |
| 2.3.1.2 三相位线性分离 | 第28-29页 |
| 2.3.1.3 基于贝叶斯估测的重建算法 | 第29页 |
| 2.3.2 频谱移动 | 第29-30页 |
| 2.3.3 频谱叠加 | 第30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 两步结构光调制的微纳结构超分辨成像方法原理分析 | 第31-37页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 本课题思路 | 第31-32页 |
| 3.3 基本原理 | 第32-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 两步结构光调制的微纳结构超分辨成像方法仿真分析 | 第37-43页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 模拟仿真 | 第37-41页 |
| 4.3 本章小结 | 第41-43页 |
| 第5章 两步结构光调制的微纳结构超分辨成像方法实验验证 | 第43-49页 |
| 5.1 引言 | 第43页 |
| 5.2 实验装置 | 第43-45页 |
| 5.3 实验过程 | 第45-47页 |
| 5.4 在结构光调制图像中提取结构光的方法 | 第47-48页 |
| 5.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第6章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 6.1 总结 | 第49页 |
| 6.2 主要创新点 | 第49-50页 |
| 6.3 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 致谢 | 第54-56页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第56页 |
