| 英文缩略词表 | 第8-9页 |
| 中文摘要 | 第9-11页 |
| 英文摘要 | 第11-13页 |
| 前言 | 第14-21页 |
| 参考文献 | 第16-21页 |
| 第一部分 高通量细胞迁移芯片的设计与制作 | 第21-29页 |
| 1.1 引言 | 第21页 |
| 1.2 芯片设计 | 第21页 |
| 1.2.1 芯片结构 | 第21页 |
| 1.2.2 芯片工作原理 | 第21页 |
| 1.3 芯片制作 | 第21-25页 |
| 1.3.1 实验材料与器材 | 第21-22页 |
| 1.3.2 芯片制作流程 | 第22-25页 |
| 1.4 实验结果与讨论 | 第25-28页 |
| 1.4.1 PDMS迁移小室的制备 | 第25-26页 |
| 1.4.2 金基底的制备 | 第26-27页 |
| 1.4.3 芯片组装 | 第27-28页 |
| 1.5 结论 | 第28-29页 |
| 第二部分 加电去硫醇的迁移方法 | 第29-40页 |
| 2.1 引言 | 第29页 |
| 2.2 实验材料与仪器 | 第29-30页 |
| 2.3 芯片结构 | 第30-32页 |
| 2.3.1 芯片总体结构 | 第30页 |
| 2.3.2 金表面结构 | 第30-32页 |
| 2.3.3 芯片工作原理 | 第32页 |
| 2.4 实验方法 | 第32-35页 |
| 2.4.1 实验设计 | 第32-33页 |
| 2.4.2 芯片清洗 | 第33页 |
| 2.4.3 接种细胞 | 第33-34页 |
| 2.4.4 换液拍照 | 第34页 |
| 2.4.5 加电及迁移 | 第34-35页 |
| 2.4.6 细胞固定染色及拍照 | 第35页 |
| 2.5 实验结果及讨论 | 第35-39页 |
| 2.5.1 细胞培养 | 第35-36页 |
| 2.5.2 不同电压值下的迁移情况 | 第36-38页 |
| 2.5.3 相同加电参数下的迁移情况 | 第38-39页 |
| 2.6 结论 | 第39-40页 |
| 第三部分 三维细胞胶原覆盖硫醇的迁移方法 | 第40-50页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验材料与仪器 | 第40-41页 |
| 3.3 芯片结构 | 第41-42页 |
| 3.3.1 金表面结构 | 第41-42页 |
| 3.3.2 芯片工作原理 | 第42页 |
| 3.4 实验方法 | 第42-46页 |
| 3.4.1 芯片清洗 | 第42-43页 |
| 3.4.2 接种细胞 | 第43页 |
| 3.4.3 换液拍照 | 第43页 |
| 3.4.4 胶原预实验 | 第43-44页 |
| 3.4.5 加入胶原 | 第44-45页 |
| 3.4.6 细胞迁移 | 第45页 |
| 3.4.7 细胞固定染色 | 第45页 |
| 3.4.8 荧光拍照及数据处理 | 第45-46页 |
| 3.5 实验结果与讨论 | 第46-49页 |
| 3.5.1 细胞培养时间 | 第46页 |
| 3.5.2 H1299细胞三维培养结构 | 第46-47页 |
| 3.5.3 胶原预实验 | 第47-48页 |
| 3.5.4 H1299细胞三维结构的迁移 | 第48页 |
| 3.5.5 存在的问题 | 第48-49页 |
| 3.6 结论 | 第49-50页 |
| 第四部分 二维细胞胶原覆盖硫醇的迁移方法 | 第50-67页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 实验材料与仪器 | 第50-51页 |
| 4.3 芯片结构 | 第51-52页 |
| 4.4 芯片工作原理 | 第52页 |
| 4.5 实验方法 | 第52-57页 |
| 4.5.1 实验设计 | 第52-53页 |
| 4.5.2 芯片清洗 | 第53-54页 |
| 4.5.3 接种细胞 | 第54页 |
| 4.5.4 换液拍照 | 第54页 |
| 4.5.5 加入胶原 | 第54-55页 |
| 4.5.6 细胞迁移 | 第55-56页 |
| 4.5.7 细胞固定染色 | 第56页 |
| 4.5.8 荧光拍照 | 第56-57页 |
| 4.6 实验结果及讨论 | 第57-65页 |
| 4.6.1 细胞培养 | 第57-58页 |
| 4.6.2 H1299细胞系,不同胶原浓度、不同金表面结构的迁移情况 | 第58-62页 |
| 4.6.3 H1299细胞系、HeLa细胞系,相同胶原浓度、相同金表面结构下FBS百分比梯度的迁移情况 | 第62-63页 |
| 4.6.4 H1299细胞系,相同胶原浓度、相同金表面结构下,不同细胞刺激因子下的迁移情况 | 第63-65页 |
| 4.7 结论 | 第65-67页 |
| 第五部分 二维细胞胶原覆盖硫醇的迁移方法在VSMC迁移中的初步应用 | 第67-75页 |
| 5.1 引言 | 第67页 |
| 5.2 实验材料与仪器 | 第67-68页 |
| 5.3 实验方法 | 第68-71页 |
| 5.3.1 芯片清洗 | 第68-69页 |
| 5.3.2 纤连蛋白修饰 | 第69页 |
| 5.3.3 接种细胞 | 第69-70页 |
| 5.3.4 换液拍照 | 第70页 |
| 5.3.5 加入胶原 | 第70页 |
| 5.3.6 细胞迁移 | 第70页 |
| 5.3.7 固定染色 | 第70-71页 |
| 5.3.8 荧光拍照及数据处理 | 第71页 |
| 5.4 实验结果及讨论 | 第71-74页 |
| 5.4.1 细胞培养 | 第71-72页 |
| 5.4.2 细胞迁移 | 第72-74页 |
| 5.5 结论 | 第74-75页 |
| 第六部分 总结及展望 | 第75-78页 |
| 6.1 论文主要研究成果 | 第75-76页 |
| 6.2 论文主要创新点 | 第76页 |
| 6.3 下一步工作展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 相关综述 微流控划痕实验的研究进展 | 第80-90页 |
| 参考文献 | 第85-90页 |
| 攻读博士学位期间发表论文情况 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
