| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 高压物理学简介 | 第10-14页 |
| 1.1.1 高压实验装置 | 第11-13页 |
| 1.1.2 金刚石对顶砧简介及应用 | 第13-14页 |
| 1.2 高压电学研究的意义 | 第14-15页 |
| 1.3 高压原位电学测量原理 | 第15-18页 |
| 1.3.1 直流电阻率测量原理 | 第15-16页 |
| 1.3.2 交流阻抗谱测量原理 | 第16-18页 |
| 1.4 论文的选题目的和意义 | 第18-19页 |
| 1.5 论文各部分的主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 高压电学测量技术与理论研究方法 | 第20-30页 |
| 2.1 高压电学测量微电路的集成 | 第20-23页 |
| 2.1.1 两电极的制备 | 第20-23页 |
| 2.1.2 四电极的制备 | 第23页 |
| 2.2 高压电学测量的绝缘垫片制备 | 第23-25页 |
| 2.2.1 两电极绝缘垫片的制备 | 第24页 |
| 2.2.2 四电极绝缘垫片的制备 | 第24-25页 |
| 2.3 DAC 的组装 | 第25-27页 |
| 2.4 理论研究的基础和方法 | 第27-30页 |
| 2.4.1 Materials Studio 软件介绍 | 第27页 |
| 2.4.2 CASTEP 的理论基础 | 第27-29页 |
| 2.4.3 参数设置和计算步骤 | 第29-30页 |
| 第三章 高压下 MoO_3的电学性质研究 | 第30-48页 |
| 3.1 MoO_3的概况及研究背景 | 第30-35页 |
| 3.2 样品 MoO_3的 XRD 表征 | 第35-36页 |
| 3.3 高压下 MoO_3的交流阻抗谱研究 | 第36-43页 |
| 3.3.1 交流阻抗谱的解析方法 | 第37-38页 |
| 3.3.2 MoO_3的阻抗谱测量 | 第38-40页 |
| 3.3.3 晶粒电阻随压力的变化关系 | 第40-41页 |
| 3.3.4 弛豫频率随压力的变化关系 | 第41-43页 |
| 3.4 MoO_3的高压原位电阻率测量 | 第43-46页 |
| 3.4.1 MoO_3的电阻率测量 | 第44-45页 |
| 3.4.2 实验过程中的电极导电性测试 | 第45-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 MoO_3的理论研究 | 第48-55页 |
| 4.1 MoO_3的理论模型 | 第48-50页 |
| 4.2 MoO_3的能带结构计算 | 第50-52页 |
| 4.3 MoO_3的电子态密度计算 | 第52-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 作者简介 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |