铝电解槽中流场和氧化铝分布的基础研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-34页 |
1.1 铝电解工业概述 | 第10页 |
1.2 Hall-Heroult电解法 | 第10-12页 |
1.3 电解质流场的研究 | 第12-24页 |
1.3.1 电磁力引起的电解质运动 | 第12-15页 |
1.3.2 气泡引起的电解质运动 | 第15-23页 |
1.3.3 电磁力与气泡共同引起的电解质运动 | 第23-24页 |
1.4 氧化铝分布的研究 | 第24-30页 |
1.5 计算流体力学的发展 | 第30-32页 |
1.6 论文研究的目的及内容 | 第32-34页 |
1.6.1 论文研究的目的 | 第32-33页 |
1.6.2 论文研究内容 | 第33-34页 |
第2章 控制方程与数学模型 | 第34-42页 |
2.1 流体力学基本控制方程 | 第34-36页 |
2.1.1 质量守恒方程 | 第34-35页 |
2.1.2 动量守恒方程 | 第35页 |
2.1.3 能量守恒方程 | 第35-36页 |
2.2 VOF模型 | 第36-37页 |
2.3 DPM模型 | 第37-39页 |
2.4 模拟实现与数值方法 | 第39-40页 |
2.5 本章小结 | 第40-42页 |
第3章 流场的数值模拟 | 第42-66页 |
3.1 模型假设与简化 | 第42页 |
3.2 几何模型及边界条件 | 第42-44页 |
3.3 阳极气泡行为 | 第44-51页 |
3.3.1 气泡在阳极底掌的迁移 | 第44-46页 |
3.3.2 气泡在阳极边缘的释放 | 第46-48页 |
3.3.3 气泡的竖直上升 | 第48-49页 |
3.3.4 阳极倒角对气泡行为的影响 | 第49-51页 |
3.4 气泡引起的电解质流场 | 第51-56页 |
3.4.1 流场到达暂稳态的时间 | 第51-53页 |
3.4.2 暂稳态流场分析 | 第53-56页 |
3.5 电解质流速测量与对比 | 第56-63页 |
3.5.1 电解质流速测量概述 | 第56-58页 |
3.5.2 电解质流速计算结果的验证分析 | 第58-60页 |
3.5.3 电解质流速的测量 | 第60-63页 |
3.6 液态电解质总质量的测量 | 第63-65页 |
3.7 本章小结 | 第65-66页 |
第4章 氧化铝分布的数值模拟 | 第66-78页 |
4.1 模型假设与简化 | 第66页 |
4.2 几何模型及边界条件 | 第66-67页 |
4.3 同一颗粒密度不同时刻对比 | 第67-71页 |
4.4 不同颗粒密度同一时刻对比 | 第71-74页 |
4.5 氧化铝加入对流场的影响 | 第74-76页 |
4.6 本章小结 | 第76-78页 |
第5章 结论与展望 | 第78-82页 |
5.1 结论 | 第78-79页 |
5.2 展望和建议 | 第79-82页 |
参考文献 | 第82-88页 |
符号说明 | 第88-90页 |
致谢 | 第90-92页 |
作者简介 | 第92页 |