| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 WO_3晶体结构 | 第10页 |
| 1.2 WO_3性能及应用 | 第10-14页 |
| 1.2.1 WO_3的性能 | 第10-14页 |
| 1.2.2 WO_3的应用 | 第14页 |
| 1.3 WO_3薄膜 | 第14-15页 |
| 1.4 WO_3纳米结构 | 第15-19页 |
| 1.5 本课题研究意义与内容 | 第19-20页 |
| 1.5.1 本课题研究意义 | 第19页 |
| 1.5.2 本课题研究内容 | 第19-20页 |
| 2 实验制备与表征方法 | 第20-24页 |
| 2.1 脉冲激光沉积 | 第20-21页 |
| 2.2 样品结构和形貌表征 | 第21-23页 |
| 2.2.1 XRD | 第21-22页 |
| 2.2.2 SEM | 第22页 |
| 2.2.3 AFM | 第22-23页 |
| 2.2.4 拉曼光谱分析 | 第23页 |
| 2.3 光学性质分析 | 第23-24页 |
| 2.3.1 紫外-可见光光谱分析 | 第23页 |
| 2.3.2 光学带隙 | 第23-24页 |
| 3 三氧化钨纳米薄膜制备及微结构研究 | 第24-41页 |
| 3.1 脉冲激光沉积制备三氧化钨薄膜 | 第24-25页 |
| 3.2 沉积温度对WO_3薄膜的影响 | 第25-32页 |
| 3.2.1 沉积温度对WO_3薄膜结构的影响 | 第25-28页 |
| 3.2.2 沉积温度对WO_3薄膜表面形貌的影响 | 第28-30页 |
| 3.2.3 沉积温度对WO_3薄膜光学性能的影响 | 第30-32页 |
| 3.3 沉积气压对WO_3薄膜的影响 | 第32-36页 |
| 3.3.1 沉积气压对WO_3薄膜结构的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.2 沉积气压对WO_3薄膜表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| 3.4 激光能量对WO_3薄膜的影响 | 第36-40页 |
| 3.4.1 激光能量对WO_3薄膜结构的影响 | 第36-38页 |
| 3.4.2 激光能量对WO_3薄膜表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 三氧化钨纳米花球制备及其电致变色性能研究 | 第41-57页 |
| 4.1 引言 | 第41-42页 |
| 4.2 三氧化钨纳米花球制备 | 第42-43页 |
| 4.2.1 实验试剂及设备 | 第42页 |
| 4.2.2 三氧化钨纳米花球的制备流程 | 第42-43页 |
| 4.3 氧化钨纳米花球形貌与微观结构 | 第43-51页 |
| 4.3.1 F127含量对氧化钨纳米花球影响 | 第44-46页 |
| 4.3.2 反应温度对氧化钨纳米花球影响 | 第46-48页 |
| 4.3.3 反应时间对氧化钨纳米花球影响 | 第48-51页 |
| 4.4 三氧化钨纳米花球电致变色性能 | 第51-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 5 三氧化钨纳米星制备及电化学性能 | 第57-66页 |
| 5.1 三氧化钨纳米星制备 | 第57-58页 |
| 5.1.1 实验试剂 | 第57页 |
| 5.1.2 实验步骤 | 第57-58页 |
| 5.2 三氧化钨纳米星形貌与微观结构 | 第58-63页 |
| 5.2.1 前驱体溶剂对形貌与结构影响 | 第58-60页 |
| 5.2.2 反应时间对三氧化钨纳米星形貌与结构影响 | 第60-62页 |
| 5.2.3 反应温度对三氧化钨纳米星形貌与结构影响 | 第62-63页 |
| 5.3 三氧化钨纳米星电化学性能 | 第63-65页 |
| 5.3.1 三氧化钨纳米星超级电容器制备 | 第63-64页 |
| 5.3.2 三氧化钨纳米星超级电容器性能 | 第64-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 6 结论与工作展望 | 第66-68页 |
| 6.1 论文结论 | 第66-67页 |
| 6.2 工作展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 附录 | 第75页 |