| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-29页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 石墨烯的概述 | 第11-20页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构及性质 | 第11-12页 |
| 1.2.2 石墨烯的制备 | 第12-15页 |
| 1.2.3 石墨烯复合物的制备 | 第15-18页 |
| 1.2.4 石墨烯的应用 | 第18-20页 |
| 1.3 聚吡咯的概述 | 第20-28页 |
| 1.3.1 聚吡咯导电机理 | 第21页 |
| 1.3.2 聚吡咯的合成方法 | 第21-25页 |
| 1.3.3 聚吡咯应用 | 第25-28页 |
| 1.4 本文主要研究内容及创新点 | 第28-29页 |
| 第2章 石墨烯修饰电极的制备及对镉离子的检测 | 第29-46页 |
| 2.1 前言 | 第29-31页 |
| 2.2 实验部分 | 第31-34页 |
| 2.2.1 主要仪器和试剂 | 第31-32页 |
| 2.2.2 氧化石墨烯的制备 | 第32-33页 |
| 2.2.3 石墨烯修饰电极（EG/GEC）的制备 | 第33-34页 |
| 2.3 石墨烯修饰电极的验证 | 第34-37页 |
| 2.3.1 电化学沉积法制备石墨烯修饰电极 | 第34-36页 |
| 2.3.2 电还原氧化石墨烯的XRD图 | 第36-37页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第37-45页 |
| 2.4.1 氧化石墨烯溶液pH值的影响 | 第38-39页 |
| 2.4.2 氧化石墨烯（GO）量的影响 | 第39-40页 |
| 2.4.3 CV法参数设置的影响 | 第40-41页 |
| 2.4.4 溶出时间对检测结果的影响 | 第41-42页 |
| 2.4.5 PBS溶液pH值对检测结果的影响 | 第42-43页 |
| 2.4.6 线性范围和检出限 | 第43-44页 |
| 2.4.7 修饰电极的重现性、稳定性探索和干扰研究 | 第44-45页 |
| 2.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第3章 聚吡咯修饰电极的制备及对镉离子的检测 | 第46-56页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验部分 | 第47-48页 |
| 3.2.1 实验仪器及试剂 | 第47页 |
| 3.2.2 修饰电极的制备 | 第47-48页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第48-55页 |
| 3.3.1 不同掺杂剂对PPy修饰电极性能的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.2 掺杂剂量对PPy修饰电极性能的影响 | 第49页 |
| 3.3.3 CV法参数对PPy修饰电极性能的影响 | 第49-51页 |
| 3.3.4 吡咯的量和pH值对PPy修饰电极性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.5 DPSV溶出时间对检测效果的影响 | 第52-53页 |
| 3.3.6 检测限的探索 | 第53-54页 |
| 3.3.7 电极的重现性和稳定性 | 第54页 |
| 3.3.8 样品分析 | 第54-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 石墨烯/聚吡咯修饰电极的制备及对镉离子的检测 | 第56-64页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 实验部分 | 第56-59页 |
| 4.2.1 主要仪器和试剂 | 第56-58页 |
| 4.2.2 玻碳电极的预处理 | 第58页 |
| 4.2.3 修饰电极的制备 | 第58-59页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第59-62页 |
| 4.3.1 PBS溶液pH值对检测的影响 | 第59页 |
| 4.3.2 溶出时间对检测的影响 | 第59-60页 |
| 4.3.3 检测限的探索 | 第60-61页 |
| 4.3.4 电极的重现性和稳定性及干扰实验 | 第61-62页 |
| 4.3.5 实际样品分析 | 第62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 结论 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
