| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 1 金属纳米结构的表面等离激元 | 第8-22页 |
| 1.1 表面等离激元 | 第9-11页 |
| 1.2 局域表面等离激元 | 第11-12页 |
| 1.3 表面增强拉曼 | 第12-17页 |
| 1.3.1 表面增强拉曼机理 | 第13-14页 |
| 1.3.2 拉曼散射增强材料及基底的研究 | 第14-17页 |
| 1.4 表面增强拉曼及表面等离激元催化发应的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.4.1 表面增强拉曼的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.4.2 表面等离激元催化发应的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.5 有限时域差分法（FDTD） | 第20-21页 |
| 1.6 研究内容及创新之处 | 第21-22页 |
| 2 铁电踌阵列的制备 | 第22-32页 |
| 2.1 原子力显微镜（AFM）介绍 | 第22-24页 |
| 2.2 PFM铁电相关概念 | 第24-26页 |
| 2.3 光化学沉积原理 | 第26-30页 |
| 2.4 光化学沉积实验 | 第30-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 3 铌酸锂衬底上纳米颗粒的表面催化反应的研究 | 第32-47页 |
| 3.1 SERS基底的制备 | 第33-34页 |
| 3.2 光化学沉积金纳米颗粒的制备 | 第34-39页 |
| 3.2.1 探究HAuCl_4浓度对Au纳米颗粒组装分布的影响 | 第34-37页 |
| 3.2.2 改变光照时间调控Au纳米颗粒大小及其分布 | 第37-39页 |
| 3.3 光化学沉积银纳米颗粒及拉曼散射光谱 | 第39-42页 |
| 3.4 FDTD模拟 | 第42-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 4 光化学沉积金纳米片的制备 | 第47-55页 |
| 4.1 不同时间、光强条件下生成的金纳米片 | 第48-51页 |
| 4.2 纳米片表面电势的测量预分析 | 第51-53页 |
| 4.3 纳米片、纳米片与颗粒、纳米片二聚体的拉曼散射增强 | 第53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 5 总结与展望 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 附录 | 第64页 |
| A. 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第64页 |
