| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-38页 |
| 1.1 惯性约束聚变 | 第11页 |
| 1.2 Z-箍缩原理及早期发展 | 第11-12页 |
| 1.3 近期丝阵Z-箍缩发展 | 第12-15页 |
| 1.3.1 丝阵Z-箍缩的兴起 | 第12-14页 |
| 1.3.2 Z装置的里程碑成果 | 第14-15页 |
| 1.4 丝阵Z-箍缩驱动的动态黑腔 | 第15-18页 |
| 1.4.1 动态黑腔简介 | 第15页 |
| 1.4.2 动态黑腔的应用 | 第15-17页 |
| 1.4.2.1 ICF辐射源 | 第15-16页 |
| 1.4.2.2 状态方程研究 | 第16-17页 |
| 1.4.3 动态黑腔重要参数测量 | 第17-18页 |
| 1.5 多层膜在极紫外与软X射线光谱诊断中的应用 | 第18-21页 |
| 1.5.1 极紫外与软X射线诊断的难点 | 第18-19页 |
| 1.5.2 多层膜的优点 | 第19页 |
| 1.5.3 多层膜在等离子体诊断中的应用 | 第19-20页 |
| 1.5.4 多层膜光栅 | 第20-21页 |
| 1.6 多层膜光学 | 第21-25页 |
| 1.6.1 多层膜工作原理 | 第21-23页 |
| 1.6.2 多层膜的几个重要参数 | 第23-25页 |
| 1.6.2.1 层厚比 | 第23-24页 |
| 1.6.2.2 界面宽度 | 第24页 |
| 1.6.2.3 谱分辨 | 第24-25页 |
| 1.7 多层膜的制备技术 | 第25-26页 |
| 1.8 多层膜的表征手段 | 第26-36页 |
| 1.8.1 X射线衍射表征多层膜结构 | 第26-28页 |
| 1.8.1.1 掠入射X射线反射率测试 | 第26-28页 |
| 1.8.1.2 大角XRD衍射 | 第28页 |
| 1.8.2 多层膜本征应力表征(Intrinsic Stress) | 第28-29页 |
| 1.8.3 极紫外与软X射线反射率测量表征多层膜光学性能 | 第29-31页 |
| 1.8.3.1 极紫外/软X射线同步辐射光源简介 | 第29-30页 |
| 1.8.3.2 反射率测量过程 | 第30-31页 |
| 1.8.4 原子力显微镜表征多层膜表面粗糙度 | 第31-32页 |
| 1.8.5 透射电子显微镜成像表征多层膜微结构 | 第32-34页 |
| 1.8.6 扫描电子显微镜和能量色散X射线光谱表征多层膜结构 | 第34-36页 |
| 1.8.6.1 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy(SEM)) | 第34-35页 |
| 1.8.6.2 能量色散X射线光谱(Energy Dispersive Spectroscopy, EDS)分析 | 第35页 |
| 1.8.6.3 EDS测量中的ZAF修正 | 第35-36页 |
| 1.9 论文研究背景及主要研究内容 | 第36-38页 |
| 1.9.1 论文研究背景 | 第36-37页 |
| 1.9.2 主要研究内容 | 第37-38页 |
| 第二章 十五通道多层膜设计、制备与测试 | 第38-48页 |
| 2.1 设计十五种多层膜反射镜 | 第38-40页 |
| 2.1.1 多层膜设计原则 | 第38页 |
| 2.1.2 多层膜设计结果 | 第38-40页 |
| 2.2 十五种多层膜制备 | 第40-41页 |
| 2.3 多层膜反射率标定 | 第41-45页 |
| 2.4 多层膜反射镜安装之后的工作角度测量 | 第45-48页 |
| 第三章 新型水窗波段软X射线V/Sc多层膜高反射率研究 | 第48-62页 |
| 3.1 水窗多层膜的研究背景和意义 | 第48-53页 |
| 3.2 V/Sc多层膜的制备与结构表征 | 第53-58页 |
| 3.3 V/Sc多层膜的软X射线反射率 | 第58-60页 |
| 3.4 分析与讨论 | 第60-61页 |
| 3.5 小结 | 第61-62页 |
| 第四章 V/Sc多层膜的热与时间稳定性研究 | 第62-74页 |
| 4.1 引言 | 第62-64页 |
| 4.2 实验 | 第64-65页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第65-72页 |
| 4.3.1 热稳定性 | 第65-71页 |
| 4.3.1.1 掠入射反射率测量 | 第65-66页 |
| 4.3.1.2 软X射线反射率测量 | 第66-67页 |
| 4.3.1.3 X射线衍射测量 | 第67-68页 |
| 4.3.1.4 TEM测试 | 第68-71页 |
| 4.3.2 时间稳定性 | 第71-72页 |
| 4.4 本章小结 | 第72-74页 |
| 第五章 工作气压对Si/C多层膜的影响研究 | 第74-84页 |
| 5.1 引言 | 第74-75页 |
| 5.2 实验 | 第75-76页 |
| 5.3 结果和讨论 | 第76-83页 |
| 5.3.1 GIXR测量 | 第76-78页 |
| 5.3.2 原子力显微镜测量 | 第78-79页 |
| 5.3.3 应力测量研究 | 第79-81页 |
| 5.3.4 极紫外反射率测量研究 | 第81-83页 |
| 5.4 小结 | 第83-84页 |
| 第六章 13 nm窄带Si/Mo/C多层膜反射镜 | 第84-90页 |
| 6.1 引言 | 第84页 |
| 6.2 实验 | 第84-86页 |
| 6.2.1 多层膜设计 | 第84-86页 |
| 6.2.2 Si/Mo/C多层膜制备 | 第86页 |
| 6.3 测试与分析 | 第86-89页 |
| 6.3.1 掠入射反射测试 | 第86-87页 |
| 6.3.2 极紫外波段同步辐射反射率测试 | 第87-89页 |
| 6.4 结论 | 第89-90页 |
| 第七章 总结与展望 | 第90-95页 |
| 7.1 主要研究内容 | 第90-92页 |
| 7.2 主要难点与创新点 | 第92-93页 |
| 7.2.1 主要难点 | 第92页 |
| 7.2.2 主要创新点 | 第92-93页 |
| 7.3 未来工作展望 | 第93-95页 |
| 致谢 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-106页 |
| 附录A 在读期间发表论文情况 | 第106页 |
