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压电式喷墨打印头振动板的设计制造与优化

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
1 绪论第8-16页
    1.1 喷墨打印技术概述第8-12页
        1.1.1 喷墨打印技术的国内外研究现状第8-12页
        1.1.2 喷墨打印技术的应用第12页
    1.2 压电式喷墨打印技术的研究现状第12-14页
    1.3 课题研究的意义及研究方法第14-16页
2 压电式喷墨打印头振动板结构设计第16-29页
    2.1 振动板结构的设计与选材第16-22页
        2.1.1 压电元件的设计与选材第16-18页
        2.1.2 电极的设计与选材第18-19页
        2.1.3 振动板弹性层的设计与选材第19-20页
        2.1.4 保护层的设计与选材第20-22页
    2.2 MEMS工艺技术第22-27页
        2.2.1 薄膜沉积工艺第23页
        2.2.2 光刻工艺第23-24页
        2.2.3 溶脱剥离工艺第24-25页
        2.2.4 刻蚀工艺第25-27页
    2.3 本章小结第27-29页
3 压电式喷墨打印头振动板制备工艺及优化第29-45页
    3.1 压电喷头振动板结构的MEMS制备工艺流程第29-30页
    3.2 SiO_2弹性层制备工艺及优化第30-33页
        3.2.1 干法氧化SiO_2薄膜第30-31页
        3.2.2 SiO_2层的腐蚀及工艺优化第31-33页
    3.3 PZT电极制备工艺及优化第33-36页
        3.3.1 Pt下电极的制备及腐蚀工艺优化第34-35页
        3.3.2 Pt上电极的制备及剥离工艺优化第35-36页
    3.4 PZT制备工艺及优化第36-38页
        3.4.1 溶胶凝胶法制备压电薄膜PZT第36页
        3.4.2 压电薄膜PZT的腐蚀工艺优化第36-38页
    3.5 振动板释放工艺第38-40页
    3.6 保护层制备工艺及优化第40-44页
        3.6.1 Parylene C保护层的沉积第40-41页
        3.6.2 Parylene C保护层的刻蚀工艺优化第41-44页
    3.7 本章小结第44-45页
4 振动板释放工艺优化第45-56页
    4.1 深反应离子刻蚀释放振动板结构第45-47页
    4.2 优化的DRIE多步刻蚀工艺第47-51页
    4.3 刻蚀结果讨论与分析第51-55页
        4.3.1 刻蚀钝化比对硅杯侧壁形貌的影响第52页
        4.3.2 刻蚀参数对“硅草”的影响第52-53页
        4.3.3 下电极射频功率对刻蚀SiO_2的影响第53-54页
        4.3.4 下电极射频功率对根切效应的影响第54-55页
    4.4 本章小结第55-56页
5 压电式喷墨打印头振动板性能测试及讨论第56-64页
    5.1 振动板的失效形式及讨论第56-58页
        5.1.1 SiO_2刻蚀情况对振动板的影响第56-57页
        5.1.2 PZT质量对振动板的影响第57-58页
        5.1.3 Parylene保护层对振动板的影响第58页
    5.2 激光多普勒振动测试第58-61页
        5.2.1 激光多普勒振动测试系统第59-60页
        5.2.2 测试结果及讨论第60-61页
    5.3 压电喷头喷墨测试第61-63页
    5.4 本章小结第63-64页
结论第64-66页
参考文献第66-70页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第70-71页
致谢第71-73页

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