摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
目录 | 第10-13页 |
第一章 绪论 | 第13-39页 |
1.1 材料的多铁性 | 第13-20页 |
1.1.1 铁电性 | 第15-16页 |
1.1.2 铁磁性 | 第16-18页 |
1.1.3 其他铁性 | 第18-19页 |
1.1.4 材料的多铁性 | 第19-20页 |
1.2 多铁性材料的形式 | 第20-23页 |
1.2.1 单相材料和复合材料 | 第21页 |
1.2.2 陶瓷材料 | 第21-22页 |
1.2.3 单晶材料 | 第22-23页 |
1.2.4 薄膜材料 | 第23页 |
1.3 铋层状钙钛矿结构氧化物 | 第23-29页 |
1.3.1 钙钛矿结构 | 第24-25页 |
1.3.2 铋层状Aurivillius相结构 | 第25页 |
1.3.3 铋层状氧化物多铁材料的发展现状 | 第25-29页 |
1.4 本论文的研究工作 | 第29-31页 |
参考文献 | 第31-39页 |
第二章 多铁材料的制备方法与性能表征技术 | 第39-66页 |
2.1 多铁材料的制备方法 | 第39-41页 |
2.1.1 前驱粉体的制备 | 第39-40页 |
2.1.2 陶瓷的烧结技术 | 第40-41页 |
2.2 一步烧结和两步烧结技术在PNN-PT陶瓷中的应用研究 | 第41-49页 |
2.2.1 两步烧结技术制备0.66PNN-0.34PT | 第43-44页 |
2.2.2 燃烧法一步烧结制备0.64PNN-0.36PT | 第44-49页 |
2.3 结构和形貌表征技术 | 第49-50页 |
2.3.1 XRD方法简介 | 第49-50页 |
2.3.2 SEM和TEM显微技术 | 第50页 |
2.4 多铁材料基本物性测量方法 | 第50-61页 |
2.4.1 电阻率测试 | 第50-53页 |
2.4.2 铁电性的测量 | 第53页 |
2.4.3 磁性的测量 | 第53-54页 |
2.4.4 介电常数及其与温度关系的测量 | 第54-57页 |
2.4.5 基于PPMS的磁电容表征技术 | 第57-58页 |
2.4.6 动态磁电耦合系数的测量 | 第58-61页 |
2.5 本章总结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
第三章 Bi_7Fe_(1.5)Co_(1.5)Ti_3O_(21)陶瓷A位锶掺杂的研究 | 第66-84页 |
3.1 引言 | 第66-67页 |
3.2 具体实验与表征技术 | 第67-68页 |
3.2.1 锶掺杂陶瓷样品的制备 | 第67-68页 |
3.2.2 样品测试用到的表征技术 | 第68页 |
3.3 结果与讨论 | 第68-79页 |
3.3.1 基于XRD数据的结构分析 | 第68-70页 |
3.3.2 基于电子显微镜的结构和形貌分析 | 第70-74页 |
3.3.3 磁学性能和结构分析 | 第74-78页 |
3.3.4 铁电性能和漏电性能表征 | 第78-79页 |
3.4 本章总结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-84页 |
第四章 SrBi_5Fe_(0.5)Co_(0.5)Ti_4O_(18)单相多铁材料及其磁电效应 | 第84-109页 |
4.1 引言 | 第84-85页 |
4.2 具体实验与表征技术 | 第85-88页 |
4.2.1 磁性材料插层方法 | 第85-87页 |
4.2.2 样品测试用到的表征技术 | 第87-88页 |
4.3 结果与讨论 | 第88-104页 |
4.3.1 基于XRD数据的结构分析 | 第88-89页 |
4.3.2 扫描透射电子显微结果 | 第89-90页 |
4.3.3 样品的磁性能 | 第90-91页 |
4.3.4 样品的介电和铁电性能 | 第91-94页 |
4.3.5 基于磁热重测量技术的定性物相分析 | 第94-95页 |
4.3.6 X射线光电子能谱(XPS)测量 | 第95-97页 |
4.3.7 样品的电阻率 | 第97页 |
4.3.8 磁介电特性 | 第97-100页 |
4.3.9 磁电耦合效应 | 第100-103页 |
4.3.10 SrBi_5Fe_(0.5)Co_(0.5)Ti_4O_(18)的第一性原理计算 | 第103-104页 |
4.4 本章总结 | 第104-105页 |
参考文献 | 第105-109页 |
第五章 SrBi_5Fe_(1-x)Co_xTi_xO_(18)多晶薄膜结构和性能的研究 | 第109-119页 |
5.1 引言 | 第109页 |
5.2 具体实验与表征技术 | 第109-111页 |
5.2.1 多晶薄膜样品的制备 | 第109-111页 |
5.2.2 样品测试用到的具体表征技术 | 第111页 |
5.3 结果与讨论 | 第111-116页 |
5.3.1 基于XRD数据的结构分析 | 第111-113页 |
5.3.2 基于透射电子显微镜和选区电子衍射分析 | 第113-115页 |
5.3.3 薄膜样品的磁学分析 | 第115页 |
5.3.4 压电力显微镜表征铁电性 | 第115-116页 |
5.4 本章总结 | 第116-117页 |
参考文献 | 第117-119页 |
第六章 全文总结及研究展望 | 第119-121页 |
6.1 全文内容总结 | 第119-120页 |
6.2 后续研究工作展望 | 第120-121页 |
致谢 | 第121-122页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第122-123页 |