| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 热电材料的研究背景及意义 | 第10页 |
| 1.2 热电效应及其应用 | 第10-15页 |
| 1.2.1 热电效应 | 第10-12页 |
| 1.2.2 热电材料的性能表征 | 第12-13页 |
| 1.2.3 热电转换效率 | 第13-14页 |
| 1.2.4 热电应用进展 | 第14-15页 |
| 1.3 热电材料的研究现状 | 第15-19页 |
| 1.3.1 已被广泛应用的材料 | 第15-16页 |
| 1.3.2 尚处于开发中的材料 | 第16-19页 |
| 1.4 镁硅基热电材料的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.5 硅纳米线的热电性能及其制备方法 | 第20-22页 |
| 1.5.1 硅纳米线的热电性能 | 第21页 |
| 1.5.2 硅纳米线的制备方法 | 第21-22页 |
| 1.6 本文主要研究内容和思路 | 第22-24页 |
| 2 实验 | 第24-28页 |
| 2.1 实验材料、仪器及设备 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验原材料 | 第24页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第24-25页 |
| 2.2 实验工艺流程 | 第25-27页 |
| 2.3 样品表征 | 第27-28页 |
| 2.3.1 样品微观形貌分析 | 第27页 |
| 2.3.2 样品热电性能测试 | 第27页 |
| 2.3.3 样品力学性能测试 | 第27-28页 |
| 3 化学刻蚀法制备硅纳米线 | 第28-36页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 一步法反应原理 | 第28-29页 |
| 3.3 实验 | 第29-30页 |
| 3.3.1 硅片清洗 | 第29页 |
| 3.3.2 硅片刻蚀 | 第29-30页 |
| 3.3.3 硅片表征 | 第30页 |
| 3.4 刻蚀时间对硅纳米线形貌的影响 | 第30-32页 |
| 3.5 硝酸银浓度对硅纳米线形貌的影响 | 第32-33页 |
| 3.6 HF酸浓度对硅纳米线形貌的影响 | 第33-34页 |
| 3.7 本章小结 | 第34-36页 |
| 4 SiNWs-Mg_2Si复合热电材料的制备与表征 | 第36-48页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 SiNWs-Mg_2Si复台热电材料的制备 | 第36-38页 |
| 4.2.1 溶液法混合粉体 | 第37页 |
| 4.2.2 FAPAS烧结成型 | 第37-38页 |
| 4.2.3 样品微观结构表征与热电性能测试 | 第38页 |
| 4.3 样品微观结构及分析 | 第38-40页 |
| 4.4 SiNWs-Mg_2Si基热电材料热电性能表征 | 第40-45页 |
| 4.4.1 样品的电传输性能 | 第40-43页 |
| 4.4.2 样品的热传输性能 | 第43-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-48页 |
| 5 SiNWs-Mg_2Si复合热电材料的力学性能及微观组织分析 | 第48-54页 |
| 5.1 引言 | 第48-49页 |
| 5.2 剪切强度测试 | 第49-50页 |
| 5.3 剪切断口分析 | 第50-52页 |
| 5.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 6 结论与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第64页 |
