摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 半导体光催化剂概要 | 第12-13页 |
1.2.1 半导体简述 | 第12页 |
1.2.2 半导体光催化的反应机理 | 第12-13页 |
1.3 半导体光催化剂活性的影响因素 | 第13-15页 |
1.3.1 晶型和晶面的影响 | 第13页 |
1.3.2 形貌的影响 | 第13-14页 |
1.3.3 缺陷的影响 | 第14页 |
1.3.4 结晶性的影响 | 第14页 |
1.3.5 比表面积的影响 | 第14页 |
1.3.6 pH 的影响 | 第14-15页 |
1.4 沉淀剂在半导体材料成核与晶化过程中的作用 | 第15-17页 |
1.4.1 沉淀剂对半导体材料形貌结构的影响 | 第15页 |
1.4.2 沉淀剂对半导体材料物理化学性质的影响 | 第15-16页 |
1.4.3 沉淀剂对半导体材料分散度的影响 | 第16页 |
1.4.4 沉淀剂对半导体材料催化活性的影响 | 第16-17页 |
1.5 卤氧铋光催化材料的研究 | 第17-21页 |
1.5.1 卤氧铋材料的特性 | 第17-18页 |
1.5.2 卤氧铋材料的制备方法 | 第18-19页 |
1.5.3 改善 BiOCl 和 BiOBr 光催化活性的方法 | 第19-21页 |
1.6 本论文的研究意义和研究内容 | 第21-23页 |
第二章 实验部分 | 第23-29页 |
2.1 试剂与仪器 | 第23-24页 |
2.2 光催化剂的制备 | 第24-25页 |
2.3 光催化剂的表征分析 | 第25-26页 |
2.3.1 X-射线衍射分析(XRD) | 第25页 |
2.3.2 比表面积分析(BET) | 第25-26页 |
2.3.3 场发射扫描电子显微镜分析(SEM) | 第26页 |
2.3.4 紫外可见漫反射光谱分析(DRS) | 第26页 |
2.3.5 荧光光谱分析(PL) | 第26页 |
2.4 光催化活性评价 | 第26-29页 |
2.4.1 光催化活性实验过程 | 第26-27页 |
2.4.2 甲基橙染料的紫外可见吸收光谱 | 第27-29页 |
第三章 不同沉淀剂条件下制备 BiOCl 及其光催化性能研究 | 第29-41页 |
3.1 引言 | 第29-30页 |
3.2 实验部分 | 第30-31页 |
3.2.1 实验主要试剂 | 第30页 |
3.2.2 催化剂的制备 | 第30-31页 |
3.2.3 催化剂的表征 | 第31页 |
3.2.4 催化剂的光催化活性测试 | 第31页 |
3.3 结果与讨论 | 第31-38页 |
3.3.1 XRD 分析 | 第31-32页 |
3.3.2 SEM 分析 | 第32-33页 |
3.3.3 比表面积分析 | 第33-34页 |
3.3.4 紫外可见漫反射分析 | 第34页 |
3.3.5 PL 分析 | 第34-35页 |
3.3.6 光催化性能测试 | 第35-36页 |
3.3.7 BiOCl 降解甲基橙的可能降解机理 | 第36-37页 |
3.3.8 BiOCl 的稳定性实验 | 第37-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-41页 |
第四章 不同沉淀剂条件下制备 BiOBr 及其光催化性能研究 | 第41-53页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 实验部分 | 第41-43页 |
4.2.1 实验主要试剂 | 第41-42页 |
4.2.2 光催化剂的制备 | 第42页 |
4.2.3 光催化剂的表征 | 第42页 |
4.2.4 催化剂的光催化活性测试 | 第42-43页 |
4.3 结果与讨论 | 第43-51页 |
4.3.1 XRD 分析 | 第43-44页 |
4.3.2 SEM 分析 | 第44-46页 |
4.3.3 DRS 分析 | 第46-48页 |
4.3.4 BiOBr 的光催化性能测试 | 第48-49页 |
4.3.5 BiOBr 降解甲基橙的可能光催化机理 | 第49-50页 |
4.3.6 BiOBr 的稳定性实验 | 第50-51页 |
4.4 本章小结 | 第51-53页 |
第五章 结论与展望 | 第53-55页 |
5.1 结论 | 第53-54页 |
5.2 展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-65页 |
致谢 | 第65-67页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第67页 |