利用荧光技术对SiO2胶体流动性能的实验研究
| 第1章 引言 | 第8-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 CMP研究现状 | 第9-14页 |
| 1.2.1 CMP技术 | 第9-10页 |
| 1.2.2 CMP机理研究进展 | 第10-12页 |
| 1.2.3 CMP存在的问题 | 第12-14页 |
| 1.3 测量方法研究进展 | 第14-20页 |
| 1.3.1 光干涉方法 | 第14页 |
| 1.3.2 光学层析方法 | 第14-15页 |
| 1.3.3 双光子激发方法[44, | 第15-16页 |
| 1.3.4 激发双波长方法 | 第16-17页 |
| 1.3.5 荧光测量研究 | 第17-20页 |
| 1.4 本文主要工作 | 第20-21页 |
| 第2章 荧光技术的基本原理 | 第21-26页 |
| 2.1 荧光辐射基本原理 | 第21-22页 |
| 2.1.1 荧光辐射 | 第21-22页 |
| 2.1.2 荧光特征 | 第22页 |
| 2.2 荧光测量基本原理 | 第22-24页 |
| 2.2.1 光的吸收 | 第22-23页 |
| 2.2.2 荧光测厚模型 | 第23-24页 |
| 2.3 荧光测量厚度的主要影响因素 | 第24-25页 |
| 2.3.1 基体反射率对荧光强度的影响 | 第24-25页 |
| 2.3.2 荧光添加物浓度对荧光强度的影响 | 第25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 荧光素钠在SIO2胶体中的荧光研究 | 第26-34页 |
| 3.1 荧光添加物的选择原则 | 第26-27页 |
| 3.2 荧光素钠胶体溶液性能测试 | 第27-28页 |
| 3.2.1 荧光素钠 | 第27页 |
| 3.2.2 胶体 | 第27页 |
| 3.2.3 实验过程 | 第27-28页 |
| 3.3 实验结果 | 第28-31页 |
| 3.3.1 荧光素钠胶体溶液的荧光特性 | 第28-31页 |
| 3.3.2 溶液的粘度 | 第31页 |
| 3.3.3 溶液表面张力 | 第31页 |
| 3.3.4 折射率的测量 | 第31页 |
| 3.4 实验结果分析 | 第31-33页 |
| 3.4.1 光谱特性分析 | 第31-32页 |
| 3.4.2 峰位变化分析 | 第32-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 实验装置及图象处理 | 第34-41页 |
| 4.1 测试装置 | 第34-37页 |
| 4.1.1 总体结构 | 第34-35页 |
| 4.1.2 光路布置 | 第35页 |
| 4.1.3 传动系统 | 第35-36页 |
| 4.1.4 摩擦副调节 | 第36页 |
| 4.1.5 光学系统 | 第36-37页 |
| 4.1.6 图象的采集 | 第37页 |
| 4.2 图象处理 | 第37-38页 |
| 4.2.1 图象复原 | 第37页 |
| 4.2.2 图象处理 | 第37-38页 |
| 4.3 系统标定 | 第38-40页 |
| 4.3.1 标定原理 | 第38页 |
| 4.3.2 光源标定 | 第38-39页 |
| 4.3.3 直尺图像 | 第39页 |
| 4.3.4 标定曲线 | 第39-40页 |
| 4.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第5章 二氧化硅胶体流动特性的研究 | 第41-70页 |
| 5.1 总体特征 | 第41页 |
| 5.2 定量流体运动 | 第41-55页 |
| 5.2.1 抛光垫转动 | 第42-43页 |
| 5.2.2 玻璃盘转动 | 第43-47页 |
| 5.2.3 抛光垫和玻璃盘转动 | 第47-48页 |
| 5.2.4 流体变化 | 第48-50页 |
| 5.2.5 分析 | 第50-55页 |
| 5.3 流动流体运动 | 第55-63页 |
| 5.3.1 静止状态注入 | 第55-57页 |
| 5.3.3 玻璃盘转动 | 第57-60页 |
| 5.3.4 抛光垫和玻璃盘转动 | 第60-61页 |
| 5.3.5 分析 | 第61-63页 |
| 5.4 液体厚度变化 | 第63-68页 |
| 5.4.1 旋转运动时SiO2 胶体的厚度变化 | 第63-65页 |
| 5.4.2 油转动现象 | 第65-66页 |
| 5.4.3 抛光垫转动时液体的压力分布 | 第66-67页 |
| 5.4.4 分析 | 第67-68页 |
| 5.5 结论 | 第68-70页 |
| 第6章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 6.1 本文的工作 | 第70-71页 |
| 6.2 对今后工作的展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 致谢、声明 | 第77-78页 |
| 个人简历、研究成果 | 第78页 |
