摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第9-10页 |
1 文献综述 | 第10-23页 |
1.1 钛硅分子筛TS-1的简介 | 第10页 |
1.2 钛硅分子筛TS-1的合成技术 | 第10-12页 |
1.2.1 水热合成法 | 第10-11页 |
1.2.2 气固相同晶取代法 | 第11-12页 |
1.2.3 微波合成法 | 第12页 |
1.3 钛硅分子筛TS-1的表征方法 | 第12-16页 |
1.3.1 X射线粉末衍射分析(XRD) | 第12-13页 |
1.3.2 紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis) | 第13页 |
1.3.3 傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第13-14页 |
1.3.4 扫描/透射电子显微镜(SEM/TEM) | 第14页 |
1.3.5 拉曼光谱(Raman) | 第14-16页 |
1.3.6 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第16页 |
1.4 钛硅分子筛TS-1的改性研究 | 第16-19页 |
1.4.1 酸改性 | 第16-17页 |
1.4.2 碱改性 | 第17-18页 |
1.4.3 盐改性 | 第18页 |
1.4.4 其他改性方法 | 第18-19页 |
1.5 TS-1分子筛催化剂在丙烯环氧化反应中的应用 | 第19-20页 |
1.5.1 H_2O_2/TS-1的丙烯液相环氧化反应 | 第19-20页 |
1.5.2 H_2O_2/TS-1的丙烯气相环氧化反应 | 第20页 |
1.6 TS-1分子筛中不同钛物种在丙烯环氧化反应中作用的研究进展 | 第20-22页 |
1.7 研究内容 | 第22-23页 |
2 实验部分 | 第23-26页 |
2.1 实验原料 | 第23页 |
2.2 TS-1催化剂的制备和后处理 | 第23-24页 |
2.3 TS-1催化剂的表征 | 第24页 |
2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第24页 |
2.3.2 紫外可见漫反射分析(UV-Vis) | 第24页 |
2.3.3 拉曼光谱(Raman) | 第24页 |
2.3.4 NH3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第24页 |
2.4 TS-1催化剂的表征丙烯环氧化反应的原位表征与检测 | 第24-26页 |
2.4.1 原位反应装置的搭建 | 第24-25页 |
2.4.2 丙烯环氧化原位反应流程 | 第25-26页 |
3 TS-1分子筛中不同钛物种在丙烯环氧化反应中的催化作用 | 第26-39页 |
3.1 TS-1分子筛中非骨架钛物种的表征 | 第26-31页 |
3.1.1 XRD结果分析 | 第26-27页 |
3.1.2 UV-Vis结果分析 | 第27-28页 |
3.1.3 Raman结果分析 | 第28-30页 |
3.1.4 NH_3-TPD结果分析 | 第30-31页 |
3.2 含不同钛物种TS-1分子筛的原位UV-Raman结果与讨论 | 第31-38页 |
3.2.1 不同硅钛比TS-1分子筛的UV-Raman结果分析 | 第31-33页 |
3.2.2 相同硅钛比TS-1分子筛的UV-Raman结果分析 | 第33-38页 |
3.3 本章小结 | 第38-39页 |
4 酸改性对TS-1中无定型钛物种抑制作用研究 | 第39-55页 |
4.1 引言 | 第39页 |
4.2 不同改性条件对无定型钛物种存在状态的影响 | 第39-45页 |
4.2.1 TS-1焙烧状态的影响 | 第39-42页 |
4.2.2 改性剂浓度的影响 | 第42-44页 |
4.2.3 不同酸改性剂的影响 | 第44-45页 |
4.3 酸改性后TS-1分子筛的原位UV-Raman结果与讨论 | 第45-54页 |
4.3.1 不同焙烧状态改性对TS-1分子筛的原位紫外拉曼光谱的影响 | 第46-48页 |
4.3.2 不同浓度改性剂对TS-1分子筛的原位紫外拉曼光谱的影响 | 第48-49页 |
4.3.3 不同改性剂对TS-1分子筛的原位紫外拉曼光谱的影响 | 第49-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-55页 |
结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |