多弧离子镀制备三元层状陶瓷Cr2AlC涂层及其性能研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 涂层 | 第11-24页 |
| 1.1.1 硬质涂层 | 第11页 |
| 1.1.2 高温防护涂层 | 第11-14页 |
| 1.1.3 涂层的性能 | 第14-17页 |
| 1.1.4 涂层的制备技术 | 第17-24页 |
| 1.2 MAX相材料 | 第24-27页 |
| 1.2.1 MAX相简介 | 第24-25页 |
| 1.2.2 MAX性能特点 | 第25-27页 |
| 1.2.3 MAX相涂层的制备方法 | 第27页 |
| 1.3 Cr_2AlC MAX相 | 第27-29页 |
| 1.3.1 Cr_2AlC的结构 | 第27-28页 |
| 1.3.2 Cr_2AlC的性能 | 第28-29页 |
| 1.3.3 Cr_2AlC涂层研究现状 | 第29页 |
| 1.4 本文的研究目的与内容 | 第29-30页 |
| 第2章 Cr_2AlC涂层制备与性能表征方法 | 第30-38页 |
| 2.1 基体材料 | 第30页 |
| 2.2 Cr_2AlC靶材的制备 | 第30-32页 |
| 2.3 涂层的制备 | 第32-33页 |
| 2.3.1 镀膜设备 | 第32-33页 |
| 2.3.2 涂层沉积 | 第33页 |
| 2.4 涂层的表征与性能测试技术 | 第33-34页 |
| 2.4.1 涂层显微组织形貌观察 | 第33-34页 |
| 2.4.2 涂层的相结构分析 | 第34页 |
| 2.4.3 涂层的成分分析 | 第34页 |
| 2.5 涂层的硬度测试 | 第34-35页 |
| 2.6 膜-基结合强度测试 | 第35-36页 |
| 2.7 涂层热处理 | 第36-38页 |
| 第3章 Cr_2AlC涂层制备工艺研究 | 第38-57页 |
| 3.1 预处理工艺 | 第38页 |
| 3.2 沉积工艺参数 | 第38-39页 |
| 3.3 Cr_2AlC靶材 | 第39-40页 |
| 3.4 单个Cr_2AlC多弧靶沉积 | 第40-42页 |
| 3.4.1 沉积涂层的微观结构 | 第40-41页 |
| 3.4.2 退火处理对涂层微观结构的影响 | 第41-42页 |
| 3.5 磁控溅射Al靶补Al | 第42-46页 |
| 3.5.1 涂层在真空炉1000℃退火 | 第43-44页 |
| 3.5.2 涂层950℃、850℃退火 | 第44-45页 |
| 3.5.3 850℃退火重复实验 | 第45-46页 |
| 3.6 多弧Cr_2AlC靶、Al靶共沉积 | 第46-53页 |
| 3.6.1 涂层850℃退火 | 第48-49页 |
| 3.6.2 涂层620℃退火 | 第49-53页 |
| 3.7 多弧沉积Cr_2AlC、Al磁控溅射C | 第53-55页 |
| 3.8 多弧沉积Cr_2AlC、Al-C靶 | 第55-56页 |
| 3.9 本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 Cr_2AlC涂层性能检测 | 第57-63页 |
| 4.1 膜-基结合强度 | 第57-58页 |
| 4.2 涂层硬度 | 第58-59页 |
| 4.3 涂层抗氧化性 | 第59-62页 |
| 4.3.1 恒温氧化实验 | 第59页 |
| 4.3.2 循环氧化实验 | 第59页 |
| 4.3.3 氧化结果讨论 | 第59-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
