| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 纳米材料概述 | 第12页 |
| 1.2 氮化硅材料 | 第12-19页 |
| 1.2.1 氮化硅材料的性能与应用 | 第12-14页 |
| 1.2.2 氮化硅一维纳米材料的制备方法 | 第14-19页 |
| 1.3 氮化硼纳米材料 | 第19-23页 |
| 1.3.1 BN纳米材料的性能与应用 | 第19-21页 |
| 1.3.2 BN纳米材料的的制备方法 | 第21-23页 |
| 1.4 BN-Si_3N_4纳米复合材料的研究进展 | 第23-24页 |
| 1.5 课题研究意义、内容及课题来源 | 第24-26页 |
| 1.5.1 课题研究意义 | 第24-25页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第25页 |
| 1.5.3 课题来源 | 第25-26页 |
| 第二章 实验材料及实验方法 | 第26-30页 |
| 2.1 实验药品和仪器 | 第26-28页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第26-27页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第27-28页 |
| 2.2 材料组织结构表征方法 | 第28页 |
| 2.3 材料性能的测试的方法 | 第28-30页 |
| 第三章 BN-Si_3N_4纳米复合粉末的制备和表征 | 第30-40页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 实验操作过程 | 第30-32页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第32-37页 |
| 3.3.1 不同的原料配比对产物的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.2 不同催化剂含量对产物的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 BN-Si_3N_4纳米材料的实验机理 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 HfO_2辅助法制备Si_3N_4纳米带及其光致发光性能 | 第40-47页 |
| 4.1 前言 | 第40页 |
| 4.2 实验过程 | 第40-41页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第40-41页 |
| 4.2.2 分析测试 | 第41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-45页 |
| 4.3.1 物相和扫描电镜分析 | 第41-42页 |
| 4.3.2 透射电镜分析 | 第42-43页 |
| 4.3.3 光致发光性能分析 | 第43-44页 |
| 4.3.4 HfO_2添加量的影响 | 第44-45页 |
| 4.4 Si_3N_4纳米带生长过程和机理分析 | 第45-46页 |
| 4.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 碳热还原法制备氮化硅晶须 | 第47-57页 |
| 5.1 前言 | 第47页 |
| 5.2 实验操作过程 | 第47-48页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第48-54页 |
| 5.3.1 温度对氮化硅晶须的影响 | 第48-50页 |
| 5.3.2 C/SiO_2摩尔比对氮化硅晶须的影响 | 第50-51页 |
| 5.3.3 反应时间对氮化硅晶须的影响 | 第51-53页 |
| 5.3.4 较佳工艺条件的扫描电镜分析和物相分析 | 第53-54页 |
| 5.4 碳热还原法合成Si_3N_4晶须的实验机理 | 第54-55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 第六章 两步气压法烧结制备BN/Si_3N_4纳米复合材料 | 第57-64页 |
| 6.1 前言 | 第57页 |
| 6.2 实验操作过程 | 第57-59页 |
| 6.3 BN/Si_3N_4复合材料的烧结过程和机理 | 第59页 |
| 6.4 结果与讨论 | 第59-63页 |
| 6.4.1 BN/Si_3N_4复合材料的微观形貌 | 第59-61页 |
| 6.4.2 BN/Si_3N_4复合材料的力学性能 | 第61-62页 |
| 6.4.3 BN/Si_3N_4复合材料的增韧机制 | 第62-63页 |
| 6.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第七章 结论与展望 | 第64-67页 |
| 7.1 结论 | 第64-65页 |
| 7.2 展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文情况 | 第78页 |
