| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-11页 |
| ·硬质薄膜材料简介 | 第8-9页 |
| ·Ti-Si-N薄膜研究现状 | 第9-10页 |
| ·本课题的研究内容和意义 | 第10-11页 |
| 2 Ti-Si-N薄膜的制备与表征 | 第11-21页 |
| ·Ti-Si-N薄膜的主要制备方法 | 第11-14页 |
| ·化学气相沉积 | 第11-12页 |
| ·物理气相沉积 | 第12-14页 |
| ·Ti-Si-N薄膜的主要表征方法 | 第14-21页 |
| ·电子探针显微分析(EPMA) | 第14-15页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第15-16页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第16-17页 |
| ·纳米压痕技术 | 第17-19页 |
| ·摩擦磨损试验机 | 第19页 |
| ·划痕试验机 | 第19-20页 |
| ·表面轮廓仪 | 第20-21页 |
| 3 磁控溅射制备Ti-Si-N薄膜的设备与工艺 | 第21-28页 |
| ·高真空磁控溅射系统 | 第21-25页 |
| ·JGP-280型单靶磁控溅射系统 | 第21-23页 |
| ·JGP-450A型三靶磁控溅射系统 | 第23-25页 |
| ·Ti-Si-N薄膜的制备工艺 | 第25-28页 |
| ·基片的选择与预处理 | 第25页 |
| ·靶材的选择和溅射靶材的制作 | 第25-26页 |
| ·Ti-Si-N薄膜的制备流程 | 第26-28页 |
| 4 JGP-280型单靶磁控溅射制备Ti-Si-N薄膜 | 第28-37页 |
| ·基片温度对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第28-31页 |
| ·Ti-Si-N薄膜制备方法 | 第28页 |
| ·基片温度对薄膜性质的影响 | 第28-31页 |
| ·Ti-Si-N薄膜沉积速率及力学性能的研究 | 第31-34页 |
| ·Ti-Si-N薄膜制备方法 | 第31-32页 |
| ·Ti-Si-N薄膜沉积速率的研究 | 第32-33页 |
| ·Ti-Si-N薄膜力学性能的研究 | 第33-34页 |
| ·改变镶嵌靶的组成对Ti-Si-N薄膜的影响 | 第34-37页 |
| ·Ti-Si-N薄膜制备方法 | 第34-35页 |
| ·改变镶嵌靶的组成对薄膜性质的影响 | 第35-37页 |
| 5 JGP-450A型三靶磁控溅射制备Ti-Si-N薄膜 | 第37-52页 |
| ·气体流量对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第37-43页 |
| ·Ti-Si-N薄膜制备方法 | 第37-38页 |
| ·气体流量对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第38-43页 |
| ·Si的含量对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第43-51页 |
| ·Ti-Si-N薄膜制备方法 | 第43-44页 |
| ·Si的含量对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第44-51页 |
| ·偏压对膜基结合力的影响 | 第51-52页 |
| 展望 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |