| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-26页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第9-11页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第9页 |
| 1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 氮化硼纳米片国内外研究现状及分析 | 第11-16页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.3 国内外研究存在的不足 | 第15-16页 |
| 1.3 六方氮化硼的简介 | 第16-23页 |
| 1.3.1 六方氮化硼的结构 | 第16-18页 |
| 1.3.2 六方氮化硼的性质 | 第18-19页 |
| 1.3.3 六方氮化硼的应用现状 | 第19-20页 |
| 1.3.4 六方氮化硼的制备方法 | 第20-23页 |
| 1.4 化学气相沉积法 | 第23-24页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 实验方法 | 第26-32页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第26-27页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第26页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第26-27页 |
| 2.2 材料制备 | 第27-28页 |
| 2.2.1 氨硼烷的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.2 二维氮化硼晶体的制备 | 第28页 |
| 2.3 样品的表征方法 | 第28-32页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第28-29页 |
| 2.3.2 X射线衍射 | 第29页 |
| 2.3.3 红外光谱 | 第29-30页 |
| 2.3.4 拉曼光谱 | 第30页 |
| 2.3.5 热重分析 | 第30页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱 | 第30-31页 |
| 2.3.7 光致发光 | 第31页 |
| 2.3.8 紫外-可见吸收光谱 | 第31-32页 |
| 第3章 氨硼烷热解反应规律的研究 | 第32-47页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 氨硼烷的制备及表征 | 第32-37页 |
| 3.2.1 氨硼烷的制备 | 第32-34页 |
| 3.2.2 氨硼烷的表征 | 第34-37页 |
| 3.3 氨硼烷热解形成氮化硼规律的研究 | 第37-46页 |
| 3.3.1 加热温度对氨硼烷热解产物的影响 | 第37-44页 |
| 3.3.2 保温时间对氨硼烷热解产物的影响 | 第44-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 二维氮化硼晶体的制备及性质研究 | 第47-63页 |
| 4.1 二维氮化硼晶体的制备及表征 | 第47-52页 |
| 4.1.1 二维氮化硼晶体的制备 | 第47页 |
| 4.1.2 二维氮化硼晶体的结构表征 | 第47-52页 |
| 4.2 反应条件对产物生长的影响 | 第52-58页 |
| 4.2.1 保温温度对产物生长的影响 | 第52-54页 |
| 4.2.2 保温时间对产物生长的影响 | 第54-55页 |
| 4.2.3 氨硼烷用量对产物生长的影响 | 第55-56页 |
| 4.2.4 退火处理对二维氮化硼晶体结晶质量的影响 | 第56-58页 |
| 4.3 二维氮化硼晶体的性质 | 第58-61页 |
| 4.3.1 二维氮化硼晶体的高温抗氧化性 | 第58-60页 |
| 4.3.2 二维氮化硼晶体的发光性质 | 第60-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 致谢 | 第72页 |