| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 选题背景及研究依据 | 第8-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 现场X射线荧光分析的发展现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 不锈钢的发展与分析标准 | 第12-13页 |
| 1.3 研究内容及研究方法 | 第13-14页 |
| 1.3.1 研究内容 | 第13-14页 |
| 1.3.2 研究方法 | 第14页 |
| 1.4 成果特色 | 第14-16页 |
| 2 X射线荧光分析的理论基础 | 第16-30页 |
| 2.1 X射线荧光分析的基本原理 | 第16-20页 |
| 2.1.1 定性分析的物理依据 | 第16-17页 |
| 2.1.2 定量分析的基本公式 | 第17-20页 |
| 2.2 探测器的选择 | 第20-25页 |
| 2.3 激发源的选择 | 第25-30页 |
| 3 实验仪器与装备 | 第30-42页 |
| 3.1 实验设备 | 第30-36页 |
| 3.1.1 探测器的准备 | 第30-31页 |
| 3.1.2 X射线管的准备 | 第31-32页 |
| 3.1.3 数字化谱仪的准备 | 第32-33页 |
| 3.1.4 实验平台的搭建 | 第33-35页 |
| 3.1.5 实验仪器的稳定性检查 | 第35-36页 |
| 3.2 样品的准备 | 第36-37页 |
| 3.3 基体效应研究与多参数校准模型 | 第37-42页 |
| 3.3.1 基体效应分析 | 第37-39页 |
| 3.3.2 权因子校正模型 | 第39-42页 |
| 4 实验结果与分析 | 第42-52页 |
| 4.1 基于SDD探测器分析系统的分析结果 | 第42-45页 |
| 4.1.1 用Pu-238同位素激发的分析结果 | 第42-44页 |
| 4.1.2 用X光管激发的分析结果 | 第44-45页 |
| 4.2 基于SDD与Si-PIN分析仪的分析对比结果 | 第45-47页 |
| 4.3 未知样品的分析对比结果 | 第47-49页 |
| 4.4 重复分析检查结果 | 第49-52页 |
| 结论 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第60页 |