| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-33页 |
| 1.1 双D-π-A菁染料概述 | 第8-19页 |
| 1.1.1 双D-π-A菁染料的结构、分类及性质 | 第8-9页 |
| 1.1.2 双D-π-A菁染料的合成及应用进展 | 第9-19页 |
| 1.2 有机分子修饰硅表面概述 | 第19-25页 |
| 1.2.1 有机分子修饰硅表面的方法 | 第19-23页 |
| 1.2.2 有机分子修饰硅表面的应用 | 第23-25页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-33页 |
| 第二章 D-π-A喹啉菁染料的合成及光谱性质 | 第33-57页 |
| 2.1 实验部分 | 第34-39页 |
| 2.1.1 仪器与试剂 | 第34页 |
| 2.1.2 中间体的合成 | 第34-36页 |
| 2.1.3 双D-π-A喹啉菁染料的合成 | 第36-38页 |
| 2.1.4 双D-π-A喹啉菁染料的结构表征 | 第38-39页 |
| 2.1.5 双D-π-A喹啉菁染料的构型优化 | 第39页 |
| 2.1.6 双D-π-A喹啉菁染料的光谱测定 | 第39页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第39-54页 |
| 2.2.1 双D-π-A喹啉菁染料的合成机理分析 | 第39-40页 |
| 2.2.2 双D-π-A喹啉菁染料的合成与纯化 | 第40-46页 |
| 2.2.3 双D-π-A菁染料的构型优化及红外模拟 | 第46-51页 |
| 2.2.4 双D-π-A喹啉菁染料的光谱性质 | 第51-54页 |
| 2.3 本章小结 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 第三章 双D-π-A喹啉菁染料修饰单晶硅表面的研究 | 第57-66页 |
| 3.1 实验部分 | 第59-60页 |
| 3.1.1 仪器与试剂 | 第59页 |
| 3.1.2 硅片基底的制备过程 | 第59页 |
| 3.1.3 染料分子薄膜的制备 | 第59-60页 |
| 3.1.4 表面光电压的测定 | 第60页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第60-63页 |
| 3.2.1 染料分子薄膜的XPS表征 | 第60-61页 |
| 3.2.2 染料分子薄膜的AFM形貌 | 第61-62页 |
| 3.2.3 表面光电压谱 | 第62-63页 |
| 3.3 本章小结 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 附录 | 第67-72页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |