| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-10页 |
| 2 超材料 | 第10-14页 |
| ·左手材料的提出 | 第10-11页 |
| ·左手材料的几种电磁特性 | 第11-14页 |
| ·负折射现象 | 第11-12页 |
| ·逆多普勒(Doppler)效应 | 第12-13页 |
| ·完美成像 | 第13-14页 |
| ·左手材料的其它特性 | 第14页 |
| ·本章小结 | 第14页 |
| 3 光刻成像系统 | 第14-20页 |
| ·光刻技术概述 | 第14-16页 |
| ·曝光系统 | 第15页 |
| ·掩膜 | 第15-16页 |
| ·硅片及光刻胶 | 第16页 |
| ·光刻工艺的几个重要参数 | 第16-18页 |
| ·分辨率增强技术-相移掩膜 | 第18-20页 |
| ·本章小结 | 第20页 |
| 4 具有缩小特性的超分辨率成像在纳米光刻技术中的研究 | 第20-31页 |
| ·超透镜研究 | 第21-24页 |
| ·完美透镜 | 第21-22页 |
| ·远场超透镜 | 第22-23页 |
| ·双曲透镜 | 第23-24页 |
| ·平板双曲透镜的设计及在纳米光刻技术中的应用 | 第24-31页 |
| ·平板双曲透镜 | 第24-26页 |
| ·纳米光刻成像系统设计 | 第26页 |
| ·仿真结果与分析 | 第26-31页 |
| ·本章小结 | 第31页 |
| 5 深亚波长聚焦透镜 | 第31-38页 |
| ·亚波长聚焦研究现状 | 第32页 |
| ·亚波长超聚焦透镜设计 | 第32-38页 |
| ·解决问题 | 第32页 |
| ·设计方法 | 第32-33页 |
| ·仿真与分析 | 第33-38页 |
| ·本章小结 | 第38页 |
| 6 总结与展望 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-43页 |
| 在校期间的研究成果 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |