基于ZY-3立体影像的地貌晕渲技术研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-15页 |
1.1 研究背景和意义 | 第10-11页 |
1.2 国内外研究现状 | 第11-13页 |
1.3 论文研究内容及组织结构 | 第13-15页 |
2 地貌晕渲相关理论 | 第15-24页 |
2.1 地貌晕渲生成的基本原理 | 第15-18页 |
2.1.1 几何光照原理 | 第15-16页 |
2.1.2 半色调原理 | 第16-18页 |
2.2 光照模型 | 第18-21页 |
2.2.1 Phong光照模型 | 第18-20页 |
2.2.2 增量式光反射模型 | 第20-21页 |
2.3 晕渲图对地貌形态的塑造 | 第21-24页 |
2.3.1 地貌形态对晕渲的影响 | 第21-22页 |
2.3.2 全国地貌区域的划分 | 第22-23页 |
2.3.3 不同尺度下地貌的表示 | 第23-24页 |
3 数字地貌晕渲的数据基础 | 第24-34页 |
3.1 数字高程模型概述 | 第24-26页 |
3.1.1 DEM的特点及获取方式 | 第24-25页 |
3.1.2 常见的DEM表示模型 | 第25-26页 |
3.2 晕渲图制作对DEM的要求 | 第26-27页 |
3.3 ZY-3 立体影像生成DEM的关键技术 | 第27-30页 |
3.3.1 资源三号卫星数据 | 第27-28页 |
3.3.2 总体技术路线 | 第28页 |
3.3.3 基于无控加密的DEM生产技术 | 第28-30页 |
3.3.4 DEM数据编辑和补漏 | 第30页 |
3.3.5 DEM数据配准 | 第30页 |
3.4 制作晕渲图DEM的处理方法 | 第30-34页 |
3.4.1 DEM数据简化处理 | 第30-31页 |
3.4.2 地形特征提取 | 第31-32页 |
3.4.3 DEM数据加密 | 第32-34页 |
4 数字地貌晕渲技术研究 | 第34-52页 |
4.1 总体技术路线 | 第34-35页 |
4.2 数字地貌晕渲效果的影响因素 | 第35-45页 |
4.2.1 DEM数据分辨率的确定 | 第35-41页 |
4.2.2 光照对地貌晕渲的影响 | 第41-44页 |
4.2.3 垂直高度比对地貌晕渲的影响 | 第44-45页 |
4.3 不同地貌晕渲方法对比分析 | 第45-47页 |
4.3.1 ArcGIS生成地貌晕渲 | 第45-46页 |
4.3.2 PixelGrid生成地貌晕渲 | 第46页 |
4.3.3 GlobalMapper生成地貌晕渲 | 第46-47页 |
4.4 数字地貌晕渲优化技术研究 | 第47-50页 |
4.4.1 去除地形细节 | 第47-48页 |
4.4.2 地形的局部处理 | 第48-49页 |
4.4.3 阴影区域色调的调整 | 第49-50页 |
4.4.4 晕渲图像效果的增强 | 第50页 |
4.5 彩色地貌晕渲色彩设计与应用 | 第50-52页 |
5 地貌晕渲制作实例及分析评价 | 第52-61页 |
5.1 中国 1:220 万地貌晕渲图的制作实例 | 第52-57页 |
5.1.1 实验区概况及数据组织 | 第52页 |
5.1.2 晕渲图的生成 | 第52-53页 |
5.1.3 晕渲图投影转换 | 第53-55页 |
5.1.4 分层设色法的实现 | 第55-56页 |
5.1.5 总结 | 第56-57页 |
5.2 晕渲图的分析评价 | 第57-61页 |
5.2.1 确定评价指标体系 | 第57-58页 |
5.2.2 设计评价方法 | 第58-59页 |
5.2.3 建立评价模型 | 第59-60页 |
5.2.4 评价结果分析 | 第60-61页 |
6 总结与展望 | 第61-62页 |
6.1 总结 | 第61页 |
6.2 展望 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-66页 |
附录 | 第66-73页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第73页 |