| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 选题背景及研究意义 | 第13-14页 |
| 1.2 低温常压烧结及烧结助剂 | 第14-16页 |
| 1.3 多孔氮化硅陶瓷的制备 | 第16-17页 |
| 1.3.1 碳热还原法制备多孔β-Si_3N_4陶瓷 | 第16-17页 |
| 1.3.2 α-Si_3N_4陶瓷的制备 | 第17页 |
| 1.4 碳化硅粉体及多孔陶瓷的制备 | 第17-22页 |
| 1.4.1 SiC的晶体结构与特性 | 第18页 |
| 1.4.2 碳化硅粉体的制备 | 第18-20页 |
| 1.4.3 多孔碳化硅陶瓷的常压烧结 | 第20-22页 |
| 1.5 多孔氧氮化硅陶瓷 | 第22-25页 |
| 1.5.1 氧氮化硅晶体结构与性能 | 第23-24页 |
| 1.5.2 国内外研究现状 | 第24-25页 |
| 1.6 本课题的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 2 CeO_2对稻壳低温常压制备多孔β-Si_3N_4陶瓷的影响 | 第27-37页 |
| 2.1 实验部分 | 第27-30页 |
| 2.1.1 实验原料与试剂 | 第27页 |
| 2.1.2 实验所用仪器设备 | 第27-28页 |
| 2.1.3 碳化稻壳的制备 | 第28-29页 |
| 2.1.4 性能测试 | 第29-30页 |
| 2.2 CeO_2掺量和烧结温度对物相组成的影响 | 第30-31页 |
| 2.3 CeO_2掺量与烧结温度对显气孔率和体积密度的影响 | 第31-32页 |
| 2.4 CeO_2掺量和烧结温度对力学性能的影响 | 第32-33页 |
| 2.5 多孔β-Si_3N_4陶瓷的显微结构 | 第33-35页 |
| 2.6 本章小结 | 第35-37页 |
| 3 稻壳低温常压制备多孔α-Si_3N_4陶瓷 | 第37-47页 |
| 3.1 实验原料与实验方案 | 第37-38页 |
| 3.2 物相分析 | 第38-40页 |
| 3.3 烧结助剂种类及掺量对多孔α-Si_3N_4陶瓷性能的影响 | 第40-43页 |
| 3.4 稻壳掺量对多孔α-Si_3N_4陶瓷性能的影响 | 第43页 |
| 3.5 微观结构 | 第43-45页 |
| 3.6 介电性能 | 第45页 |
| 3.7 本章小结 | 第45-47页 |
| 4 稻壳低温常压制备多孔碳化硅陶瓷 | 第47-53页 |
| 4.1 实验原料与实验方案 | 第47-48页 |
| 4.2 SiC的形成过程 | 第48-49页 |
| 4.3 多孔SiC陶瓷性能分析 | 第49-50页 |
| 4.4 显微结构分析 | 第50-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 5 稻壳低温常压制备多孔氧氮化硅陶瓷 | 第53-61页 |
| 5.1 实验原料与实验方案 | 第53-54页 |
| 5.2 多孔陶瓷物相分析 | 第54-55页 |
| 5.3 多孔陶瓷的显气孔率 | 第55-56页 |
| 5.4 多孔陶瓷的抗弯强度 | 第56-57页 |
| 5.5 显微结构分析 | 第57-58页 |
| 5.6 抗氧化性能 | 第58-59页 |
| 5.7 本章小结 | 第59-61页 |
| 6 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 作者简介及读研期间主要科研成果 | 第73-74页 |
