摘要 | 第4-5页 |
ABCTRACT | 第5页 |
1 绪论 | 第12-22页 |
1.1 纳米科技与纳米材料的简介 | 第12页 |
1.2 纳米材料的性质 | 第12-13页 |
1.3 纳米材料的制备方法 | 第13-15页 |
1.4 纳米材料的研究现状 | 第15-20页 |
1.4.1 硅纳米材料的研究现状 | 第15-16页 |
1.4.2 金属锡化物纳米材料的研究现状 | 第16-18页 |
1.4.3 金属铋化物纳米材料的研究现状 | 第18-20页 |
1.5 本文的选题依据及研究内容 | 第20-22页 |
2 实验方法和原理 | 第22-28页 |
2.1 直流电弧法 | 第22-25页 |
2.1.1 直流电弧法原理 | 第22页 |
2.1.2 直流电弧放电实验装置 | 第22-24页 |
2.1.3 直流电弧法合成的优点 | 第24-25页 |
2.1.4 直流电弧放电实验过程 | 第25页 |
2.2 测试方法及仪器 | 第25-28页 |
2.2.1 实验材料及仪器 | 第25-26页 |
2.2.2 表征方法 | 第26-28页 |
3 Si/SiO_x纳米材料的制备与表征 | 第28-36页 |
3.1 引言 | 第28页 |
3.2 Si/SiO_x纳米材料的制备 | 第28-34页 |
3.2.1 实验过程 | 第28页 |
3.2.2 结果与讨论 | 第28-34页 |
3.2.2.1 Si/SiO_x纳米材料XRD分析 | 第28-29页 |
3.2.2.2 Si/SiO_x纳米材料EDS分析 | 第29页 |
3.2.2.3 Si/SiO_x纳米线TEM、SEM、HRTEM、SAED分析 | 第29-30页 |
3.2.2.4 Si/SiO_x纳米花TEM、HRTEM、SAED分析 | 第30-31页 |
3.2.2.5 Si/SiO_x纳米球TEM、HRTEM分析 | 第31-32页 |
3.2.2.6 Si/SiO_x纳米线UV性能 | 第32-33页 |
3.2.2.7 Si/SiO_x纳米线PL性能 | 第33-34页 |
3.2.2.8 Si/SiO_x纳米结构生长机制 | 第34页 |
3.3 本章小结 | 第34-36页 |
4 金属硫化物纳米材料的制备与表征 | 第36-49页 |
4.1 引言 | 第36页 |
4.2 SnS纳米片结构的制备与表征 | 第36-40页 |
4.2.1 实验过程 | 第36页 |
4.2.2 结果与表征 | 第36-40页 |
4.2.2.1 SnS纳米片XRD分析 | 第36-37页 |
4.2.2.2 SnS纳米片EDS分析 | 第37-38页 |
4.2.2.3 SnS纳米片Mapping分析 | 第38页 |
4.2.2.4 SnS纳米片SEM分析 | 第38-39页 |
4.2.2.5 SnS纳米片TEM、HRTEM、SAED分析 | 第39-40页 |
4.3 SnS纳米颗粒的制备与表征 | 第40-42页 |
4.3.1 实验过程 | 第40页 |
4.3.2 结果与讨论 | 第40-42页 |
4.3.2.1 SnS纳米颗粒XRD表征 | 第40-41页 |
4.3.2.2 SnS纳米颗粒EDS分析 | 第41-42页 |
4.3.2.3 SnS纳米颗粒SEM分析 | 第42页 |
4.4 SnSe纳米片的制备与表征 | 第42-45页 |
4.4.1 实验过程 | 第42-43页 |
4.4.2 结果与讨论 | 第43-45页 |
4.4.2.1 SnSe纳米片XRD分析 | 第43页 |
4.4.2.2 SnSe纳米片EDS分析 | 第43-44页 |
4.4.2.3 SnSe纳米片SEM分析 | 第44-45页 |
4.4.2.4 SnSe纳米片TEM分析 | 第45页 |
4.5 SnSe纳米颗粒制备与表征 | 第45-47页 |
4.5.1 实验过程 | 第45-46页 |
4.5.2 结果与讨论 | 第46-47页 |
4.5.2.1 SnSe纳米颗粒XRD分析 | 第46页 |
4.5.2.2 SnSe纳米颗粒EDS分析 | 第46-47页 |
4.5.2.3 SnSe纳米颗粒SEM分析 | 第47页 |
4.6 本章小结 | 第47-49页 |
5 金属铋化物纳米材料的制备与表征 | 第49-59页 |
5.1 引言 | 第49页 |
5.2 Bi_2Se_3纳米材料的制备与表征 | 第49-53页 |
5.2.1 实验过程 | 第49页 |
5.2.2 结果与讨论 | 第49-53页 |
5.2.2.1 Bi_2Se_3纳米颗粒XRD分析 | 第49-50页 |
5.2.2.2 Bi_2Se_3纳米颗粒SEM分析 | 第50页 |
5.2.2.3 不同反应压强对合成Bi_2Se_3纳米结构的影响 | 第50-51页 |
5.2.2.4 不同反应时间对合成Bi_2Se_3纳米结构的影响 | 第51-52页 |
5.2.2.5 Bi_2Se_3纳米颗粒拉曼分析 | 第52-53页 |
5.3 Bi2Te3纳米材料的制备与表征 | 第53-57页 |
5.3.1 实验过程 | 第53页 |
5.3.2 结果与讨论 | 第53-57页 |
5.3.2.1 Bi2Te3纳米颗粒XRD分析 | 第53-54页 |
5.3.2.2 Bi2Te3纳米颗粒SEM分析 | 第54-55页 |
5.3.2.3 Bi2Te3纳米颗粒拉曼分析 | 第55页 |
5.3.2.4 不同反应时间对合成Bi2Te3纳米结构的影响 | 第55-56页 |
5.3.2.5 不同反应电流对合成Bi2Te3纳米结构的影响 | 第56-57页 |
5.4 本章小结 | 第57-59页 |
全文总结 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-65页 |
发表论文情况 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-67页 |