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Si/SiO_x、金属锡化物、金属铋化物纳米结构直流电弧法的制备与表征

摘要第4-5页
ABCTRACT第5页
1 绪论第12-22页
    1.1 纳米科技与纳米材料的简介第12页
    1.2 纳米材料的性质第12-13页
    1.3 纳米材料的制备方法第13-15页
    1.4 纳米材料的研究现状第15-20页
        1.4.1 硅纳米材料的研究现状第15-16页
        1.4.2 金属锡化物纳米材料的研究现状第16-18页
        1.4.3 金属铋化物纳米材料的研究现状第18-20页
    1.5 本文的选题依据及研究内容第20-22页
2 实验方法和原理第22-28页
    2.1 直流电弧法第22-25页
        2.1.1 直流电弧法原理第22页
        2.1.2 直流电弧放电实验装置第22-24页
        2.1.3 直流电弧法合成的优点第24-25页
        2.1.4 直流电弧放电实验过程第25页
    2.2 测试方法及仪器第25-28页
        2.2.1 实验材料及仪器第25-26页
        2.2.2 表征方法第26-28页
3 Si/SiO_x纳米材料的制备与表征第28-36页
    3.1 引言第28页
    3.2 Si/SiO_x纳米材料的制备第28-34页
        3.2.1 实验过程第28页
        3.2.2 结果与讨论第28-34页
            3.2.2.1 Si/SiO_x纳米材料XRD分析第28-29页
            3.2.2.2 Si/SiO_x纳米材料EDS分析第29页
            3.2.2.3 Si/SiO_x纳米线TEM、SEM、HRTEM、SAED分析第29-30页
            3.2.2.4 Si/SiO_x纳米花TEM、HRTEM、SAED分析第30-31页
            3.2.2.5 Si/SiO_x纳米球TEM、HRTEM分析第31-32页
            3.2.2.6 Si/SiO_x纳米线UV性能第32-33页
            3.2.2.7 Si/SiO_x纳米线PL性能第33-34页
            3.2.2.8 Si/SiO_x纳米结构生长机制第34页
    3.3 本章小结第34-36页
4 金属硫化物纳米材料的制备与表征第36-49页
    4.1 引言第36页
    4.2 SnS纳米片结构的制备与表征第36-40页
        4.2.1 实验过程第36页
        4.2.2 结果与表征第36-40页
            4.2.2.1 SnS纳米片XRD分析第36-37页
            4.2.2.2 SnS纳米片EDS分析第37-38页
            4.2.2.3 SnS纳米片Mapping分析第38页
            4.2.2.4 SnS纳米片SEM分析第38-39页
            4.2.2.5 SnS纳米片TEM、HRTEM、SAED分析第39-40页
    4.3 SnS纳米颗粒的制备与表征第40-42页
        4.3.1 实验过程第40页
        4.3.2 结果与讨论第40-42页
            4.3.2.1 SnS纳米颗粒XRD表征第40-41页
            4.3.2.2 SnS纳米颗粒EDS分析第41-42页
            4.3.2.3 SnS纳米颗粒SEM分析第42页
    4.4 SnSe纳米片的制备与表征第42-45页
        4.4.1 实验过程第42-43页
        4.4.2 结果与讨论第43-45页
            4.4.2.1 SnSe纳米片XRD分析第43页
            4.4.2.2 SnSe纳米片EDS分析第43-44页
            4.4.2.3 SnSe纳米片SEM分析第44-45页
            4.4.2.4 SnSe纳米片TEM分析第45页
    4.5 SnSe纳米颗粒制备与表征第45-47页
        4.5.1 实验过程第45-46页
        4.5.2 结果与讨论第46-47页
            4.5.2.1 SnSe纳米颗粒XRD分析第46页
            4.5.2.2 SnSe纳米颗粒EDS分析第46-47页
            4.5.2.3 SnSe纳米颗粒SEM分析第47页
    4.6 本章小结第47-49页
5 金属铋化物纳米材料的制备与表征第49-59页
    5.1 引言第49页
    5.2 Bi_2Se_3纳米材料的制备与表征第49-53页
        5.2.1 实验过程第49页
        5.2.2 结果与讨论第49-53页
            5.2.2.1 Bi_2Se_3纳米颗粒XRD分析第49-50页
            5.2.2.2 Bi_2Se_3纳米颗粒SEM分析第50页
            5.2.2.3 不同反应压强对合成Bi_2Se_3纳米结构的影响第50-51页
            5.2.2.4 不同反应时间对合成Bi_2Se_3纳米结构的影响第51-52页
            5.2.2.5 Bi_2Se_3纳米颗粒拉曼分析第52-53页
    5.3 Bi2Te3纳米材料的制备与表征第53-57页
        5.3.1 实验过程第53页
        5.3.2 结果与讨论第53-57页
            5.3.2.1 Bi2Te3纳米颗粒XRD分析第53-54页
            5.3.2.2 Bi2Te3纳米颗粒SEM分析第54-55页
            5.3.2.3 Bi2Te3纳米颗粒拉曼分析第55页
            5.3.2.4 不同反应时间对合成Bi2Te3纳米结构的影响第55-56页
            5.3.2.5 不同反应电流对合成Bi2Te3纳米结构的影响第56-57页
    5.4 本章小结第57-59页
全文总结第59-60页
参考文献第60-65页
发表论文情况第65-66页
致谢第66-67页

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