| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·石墨烯的研究背景 | 第9-10页 |
| ·石墨烯的结构 | 第10-12页 |
| ·石墨烯的性质 | 第12-14页 |
| ·石墨烯的化学性质 | 第12页 |
| ·石墨烯的电学性质 | 第12-13页 |
| ·光学性质 | 第13-14页 |
| ·石墨烯的应用状况 | 第14-15页 |
| ·石墨烯场效应管 | 第14页 |
| ·石墨烯传感器 | 第14-15页 |
| ·透明电极上应用 | 第15页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第15-18页 |
| ·微机械剥离法 | 第15-16页 |
| ·外延生长法 | 第16页 |
| ·氧化还原法 | 第16-17页 |
| ·化学气相淀积法 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究意义与主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 石墨烯的制备与表征 | 第19-25页 |
| ·石墨烯的制备设备 | 第19-21页 |
| ·样品的制备 | 第21-22页 |
| ·石墨烯的转移 | 第22-23页 |
| ·石墨烯的特性表征设备 | 第23-25页 |
| 第三章 PECVD 制备石墨烯及其特性表征 | 第25-46页 |
| ·不同生长温度下制备石墨烯的研究 | 第25-33页 |
| ·不同生长温度下制备石墨烯的拉曼光谱分析 | 第25-27页 |
| ·不同生长温度下制备石墨烯的 SEM 图 | 第27-29页 |
| ·不同生长温度下制备石墨烯的 AFM 图 | 第29-33页 |
| ·不同生长压强下制备石墨烯的研究 | 第33-37页 |
| ·不同生长压强下制备石墨烯的拉曼光谱分析 | 第33-35页 |
| ·不同生长压强下制备石墨烯的 SEM 图 | 第35-37页 |
| ·不同的碳源含量下制备石墨烯的研究 | 第37-41页 |
| ·不同的碳源含量下制备石墨烯的拉曼光谱分析 | 第37-39页 |
| ·不同的碳源含量下生长石墨烯的 SEM 图 | 第39-41页 |
| ·不同的功率下生长石墨烯的研究 | 第41-45页 |
| ·不同的生长功率下制备石墨烯的拉曼光谱分析 | 第41-43页 |
| ·不同的生长功率下制备石墨烯的 SEM 图 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 石墨烯嵌入 VO_X‐RRAM 性能的研究 | 第46-51页 |
| ·RRAM | 第46-47页 |
| ·石墨烯嵌入 VO_X‐RRAM 的样品制备 | 第47-48页 |
| ·石墨烯嵌入 VO_X‐RRAM 的结果分析 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |