磁控溅射法制备CIGS薄膜光伏电池Mo背电极的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-25页 |
| ·太阳电池简介 | 第12-15页 |
| ·太阳电池的种类 | 第13-15页 |
| ·硅系太阳电池 | 第14页 |
| ·化合物薄膜太阳电池 | 第14-15页 |
| ·纳米晶薄膜太阳电池 | 第15页 |
| ·有机薄膜太阳电池 | 第15页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池简介 | 第15-19页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池结构及工作原理 | 第16-17页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池的国内外研究进展 | 第17-19页 |
| ·CIGS薄膜电池背电极材料介绍 | 第19-20页 |
| ·CIGS薄膜电池背电极的制备工艺 | 第20-23页 |
| ·化学气相沉积 | 第20-21页 |
| ·电子束蒸发 | 第21页 |
| ·溅射沉积法 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射法原理及特点 | 第21-23页 |
| ·国内外背电极Mo薄膜的研究现状 | 第23页 |
| ·课题研究目的及创新点 | 第23-25页 |
| 第三章 实验部分 | 第25-30页 |
| ·实验药品和实验仪器设备 | 第25-26页 |
| ·玻璃基底的清洗 | 第26页 |
| ·Mo薄膜背电极的制备 | 第26-28页 |
| ·Mo薄膜的分析测试方法 | 第28-30页 |
| ·Mo薄膜的物相结构分析 | 第28页 |
| ·Mo薄膜的微观形貌分析 | 第28页 |
| ·Mo薄膜的光学性能测试 | 第28-29页 |
| ·Mo薄膜的电学性能测试(方块电阻测试) | 第29-30页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第30-52页 |
| ·靶材原料分析 | 第30-32页 |
| ·靶材原料的XRD | 第30-31页 |
| ·靶材的表面形貌 | 第31-32页 |
| ·双极脉冲磁控溅射制备Mo薄膜的结构及性能分析 | 第32-43页 |
| ·溅射时间对Mo薄膜的影响 | 第32-35页 |
| ·不同溅射时间下Mo薄膜的沉积速率 | 第32-33页 |
| ·不同溅射时间下Mo薄膜的结构分析 | 第33-34页 |
| ·不同溅射时间下Mo薄膜的光学性能分析 | 第34页 |
| ·不同溅射时间下Mo薄膜的电学性能分析 | 第34-35页 |
| ·衬底温度对Mo薄膜的影响 | 第35-39页 |
| ·不同衬底温度下Mo薄膜的沉积速率 | 第35-36页 |
| ·不同衬底温度下Mo薄膜的微观形貌 | 第36页 |
| ·不同衬底温度下Mo薄膜的结构分析 | 第36-37页 |
| ·不同衬底温度下Mo薄膜的光学性能分析 | 第37-38页 |
| ·不同衬底温度下Mo薄膜的电学性能分析 | 第38-39页 |
| ·溅射功率对Mo薄膜的影响 | 第39-43页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的沉积速率 | 第39-40页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的形貌 | 第40页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的结构 | 第40-42页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的光学性能 | 第42页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的电学性能 | 第42-43页 |
| ·中频磁控溅射制备Mo薄膜的结构及性能分析 | 第43-52页 |
| ·溅射功率的影响 | 第43-47页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的沉积速率 | 第43-44页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的微观形貌 | 第44页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的的晶体结构 | 第44-46页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的光学性能 | 第46-47页 |
| ·不同溅射功率下Mo薄膜的电学性能 | 第47页 |
| ·工作气压的影响 | 第47-52页 |
| ·不同工作气压下Mo薄膜的沉积速率 | 第47-48页 |
| ·不同工作气压下Mo薄膜的微观形貌 | 第48-49页 |
| ·不同工作气压下Mo薄膜的晶体结构 | 第49-50页 |
| ·不同工作气压下Mo薄膜的光学性能 | 第50-51页 |
| ·不同工作气压下Mo薄膜的电学性能 | 第51-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录A 攻读硕士期间发表的论文及成果 | 第58页 |
