| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·酞菁的概述 | 第9-14页 |
| ·酞菁的性质 | 第9-11页 |
| ·酞菁的合成 | 第11-14页 |
| ·酞菁的应用前景 | 第14页 |
| ·石墨烯的概述 | 第14-16页 |
| ·石墨烯的结构与性质 | 第15-16页 |
| ·氧化石墨烯的概述 | 第16-19页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第16-17页 |
| ·氧化石墨烯的表面修饰 | 第17-19页 |
| ·聚酰亚胺的概述 | 第19-22页 |
| ·聚酰亚胺的结构与性能 | 第19-20页 |
| ·聚酰亚胺的合成方法 | 第20-21页 |
| ·聚酰亚胺的应用 | 第21-22页 |
| ·非线性光学的概述 | 第22-26页 |
| ·光限幅原理 | 第23-25页 |
| ·光限幅材料的规格要求 | 第25-26页 |
| ·酞菁在非线性领域的研究 | 第26页 |
| ·石墨烯在非线性领域的研究 | 第26页 |
| ·聚酰亚胺在非线性领域的研究 | 第26页 |
| ·本文研究的目的和意义 | 第26-28页 |
| 第二章 实验 | 第28-31页 |
| ·实验药品与试剂 | 第28-29页 |
| ·实验仪器与表征方法 | 第29-30页 |
| ·主要的实验仪器 | 第29页 |
| ·分析与测试 | 第29-30页 |
| ·实验装置图 | 第30-31页 |
| 第三章 酞菁与石墨烯的合成及表征 | 第31-42页 |
| ·四氨基酞菁的合成 | 第31-32页 |
| ·四硝基酞菁的合成 | 第31页 |
| ·四氨基酞菁的合成 | 第31-32页 |
| ·四氨基酞菁的表征 | 第32-37页 |
| ·四硝基酞菁的表征 | 第32-34页 |
| ·四氨基酞菁的表征 | 第34-37页 |
| ·石墨烯的合成 | 第37-38页 |
| ·氧化石墨的合成 | 第37页 |
| ·氧化石墨烯的合成 | 第37-38页 |
| ·羧基化氧化石墨烯的合成 | 第38页 |
| ·氧化石墨烯的表征 | 第38-41页 |
| ·红外光谱分析 | 第38-39页 |
| ·紫外-可见吸收光谱分析 | 第39页 |
| ·氧化石墨烯SEM分析 | 第39-40页 |
| ·氧化石墨烯XPS分析 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第四章 酞菁-石墨烯的键合及其聚酰亚胺的合成与表征 | 第42-64页 |
| ·酞菁-石墨烯的键合 | 第42-43页 |
| ·酞菁与石墨烯的键合 | 第42页 |
| ·还原酞菁-石墨烯键合化合物 | 第42-43页 |
| ·rGO-MPcNH_2的聚酰亚胺的合成 | 第43-45页 |
| ·酞菁-石墨烯化合物的表征 | 第45-52页 |
| ·酞菁与石墨烯键合化合物的表征 | 第45-50页 |
| ·还原酞菁-石墨烯键合化合物 | 第50-52页 |
| ·rGO-MPcNH_2的聚酰亚胺的表征 | 第52-55页 |
| ·rGO-MPcNH_2的聚酰亚胺的红外分析 | 第52-53页 |
| ·rGO-MPcNH_2的聚酰亚胺的紫外-可见光谱分析 | 第53-55页 |
| ·Z-扫描测试与分析 | 第55-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |