| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·硅纳米线的制备方法 | 第9-12页 |
| ·“自下往上”工艺 | 第9-11页 |
| ·“自上到下”工艺 | 第11-12页 |
| ·一维硅基功能复合材料 | 第12-13页 |
| ·半导体结 | 第12页 |
| ·过渡金属氧化物包覆 | 第12-13页 |
| ·有机物改性 | 第13页 |
| ·金属修饰 | 第13页 |
| ·硅纳米线及硅基功能复合纳米线的应用 | 第13-19页 |
| ·场效应晶体管(FET) | 第13-14页 |
| ·PN 结和超晶格 | 第14-15页 |
| ·传感器 | 第15-16页 |
| ·热电器件 | 第16-17页 |
| ·表面增强拉曼活性基底 | 第17页 |
| ·抗反射层和太阳能电池 | 第17-18页 |
| ·锂离子电池 | 第18-19页 |
| ·本文的选题以及主要工作 | 第19-21页 |
| 第2章 金属诱导化学刻蚀法制备单晶和多晶硅基纳米线 | 第21-33页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·金属诱导化学刻蚀法介绍 | 第21-24页 |
| ·单晶硅衬底制备硅纳米线阵列 | 第24-28页 |
| ·硅纳米线阵列制备 | 第24-25页 |
| ·硅纳米线阵列形貌表征和成分分析 | 第25-28页 |
| ·多晶硅衬底制备硅纳米线阵列 | 第28-32页 |
| ·多晶硅与单晶硅的区别 | 第28-29页 |
| ·实验过程 | 第29页 |
| ·实验表征结果与分析 | 第29-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第3章 多晶硅太阳能电池纳米线绒面的制备及抗反射性能研究 | 第33-39页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·多晶硅基纳米线绒面的制备与测试 | 第34页 |
| ·结果与分析 | 第34-38页 |
| ·多晶硅纳米线绒面的形貌图 | 第34-35页 |
| ·刻蚀时间与硅纳米线阵列形貌的关系 | 第35-36页 |
| ·多晶硅基纳米线绒面抗反射性能测试 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第4章 NiO/Si 复合纳米线阵列的制备及储锂性能研究 | 第39-48页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·样品制备与测试 | 第39-41页 |
| ·NiO/Si 复合纳米线阵列制备 | 第39-41页 |
| ·NiO/Si 复合纳米线阵列表征及电化学测试 | 第41页 |
| ·结果与分析 | 第41-47页 |
| ·Ni/SiNWs 阵列 | 第41-43页 |
| ·NiO/Si 复合纳米线阵列 | 第43-45页 |
| ·储锂性能测试 | 第45-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第5章 总结与展望 | 第48-50页 |
| ·总结 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第59页 |
