| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| ·TFT-LCD 发展及制造工艺 | 第12-15页 |
| ·TFT-LCD 的发展现状 | 第12-13页 |
| ·TFT-LCD 结构及制造工艺 | 第13-15页 |
| ·玻璃减薄刻蚀废液 | 第15-18页 |
| ·玻璃减薄刻蚀废液的产生 | 第15-16页 |
| ·玻璃减薄刻蚀废液的处理现状 | 第16-17页 |
| ·含 H_2SiF_6废液的处理研究现状 | 第17-18页 |
| ·TFT-LCD 产业中铟的利用及回收 | 第18-24页 |
| ·铟资源的分布及利用情况 | 第18-19页 |
| ·TFT-LCD 产业链中铟的回收利用 | 第19-24页 |
| ·选题思路、意义及主要研究内容 | 第24-30页 |
| ·玻璃减薄刻蚀废液 | 第25-27页 |
| ·ITO 刻蚀废液 | 第27-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-38页 |
| ·实验室仪器及试剂 | 第30-33页 |
| ·实验室仪器 | 第30页 |
| ·主要化学试剂及药品 | 第30-33页 |
| ·实验测定方法 | 第33-36页 |
| ·氟硅酸的测定方法 | 第33页 |
| ·氟离子测定方法 | 第33-34页 |
| ·钠离子测定方法 | 第34-35页 |
| ·金属铟的测定方法 | 第35-36页 |
| ·实验原理简介 | 第36-38页 |
| ·玻璃减薄刻蚀废液处理主要原理 | 第36页 |
| ·ITO 刻蚀废液中铟回收的主要原理 | 第36-38页 |
| 第三章 玻璃减薄刻蚀废液的处理 | 第38-55页 |
| ·沉淀剂的筛选 | 第38-40页 |
| ·NaCl 对模拟玻璃减薄废液的处理 | 第40-47页 |
| ·NaCl 添加量对 H_2SiF_6去除率的影响 | 第40-41页 |
| ·NaCl 对不同浓度模拟废液的处理 | 第41-43页 |
| ·沉淀成分分析 | 第43-45页 |
| ·处理后酸液成分分析 | 第45-47页 |
| ·NaF 对模拟玻璃减薄废液的处理 | 第47-48页 |
| ·H_2SiF_6去除的影响因素 | 第48-49页 |
| ·NaCl 对实际废液处理 | 第49-50页 |
| ·中试装置搭建及运行结果 | 第50-54页 |
| ·中试装置线路流程 | 第50-51页 |
| ·实际运行结果 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 ITO 刻蚀废液中铟回收利用技术探索性研究 | 第55-64页 |
| ·P204 以及 P507 对铟、锡萃取性能的分析 | 第55-56页 |
| ·P204 对铟的萃取研究 | 第56-60页 |
| ·A/O 相比对萃取效率的影响 | 第56-57页 |
| ·酸度对萃取效率的影响 | 第57-58页 |
| ·P204 浓度对铟萃取效率的影响 | 第58-59页 |
| ·萃取时间对铟萃取率的影响 | 第59-60页 |
| ·铟的反萃取效率分析 | 第60-63页 |
| ·酸度对铟反萃率的影响 | 第60-61页 |
| ·A/O 相比对反萃取效率的影响 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-68页 |
| ·研究结论 | 第64-66页 |
| ·玻璃减薄刻蚀废液的处理工艺主要成果 | 第64-65页 |
| ·ITO 刻蚀废液处理工艺主要研究成果 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-68页 |
| ·玻璃减薄刻蚀废液的处理展望 | 第66页 |
| ·ITO 刻蚀废液处理工艺展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第74页 |
