摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 前言 | 第12-32页 |
第一节 有机发光二极管(OLED)研究简介 | 第12-19页 |
·OLED 的发展历程 | 第12-13页 |
·有机发光平板显示的驱动模式 | 第13-14页 |
·有机发光平板显示的彩色化技术 | 第14-15页 |
·OLED 图案化发光薄膜的制备技术 | 第15-19页 |
第二节 电化学沉积技术简介 | 第19-29页 |
·电化学沉积过程和机理 | 第19-23页 |
·电化学偶联反应机理 | 第19-21页 |
·电化学偶联产物的成核和生长 | 第21-22页 |
·电化学沉积薄膜的固态聚合 | 第22-23页 |
·电化学沉积技术的特点及应用 | 第23-24页 |
·电沉积发光薄膜研究现状 | 第24-26页 |
·电沉积发光薄膜 OLED 应用中的关键问题及解决方案 | 第26-29页 |
第三节 本论文的设计思路 | 第29-32页 |
·论文的选题 | 第29-30页 |
·论文的主要内容 | 第30-32页 |
第二章 高交联、平整致密的电沉积发光薄膜的可控制备 | 第32-58页 |
第一节 引言 | 第32-34页 |
第二节 分子设计—对电沉积过程中异相电子转移速率的调控 | 第34-47页 |
·不同官能度电沉积前体的设计 | 第34页 |
·电化学行为及电化学沉积薄膜的制备 | 第34-37页 |
·交联结构薄膜的定性表征及交联度定量分析 | 第37-38页 |
·官能度对电沉积薄膜表面形貌的影响 | 第38-39页 |
·不同官能度前体的电沉积动力学分析与理论模型 | 第39-47页 |
第三节 界面修饰—对电沉积薄膜成核、生长过程的调控 | 第47-57页 |
·设计思路与界面修饰层的选择 | 第47-49页 |
·ITO 表面修饰与表征 | 第49-50页 |
·不同电极上 OCBzC 的电沉积行为 | 第50-52页 |
·不同电极上电沉积薄膜的形貌特征 | 第52-54页 |
·不同电极上电沉积薄膜的光物理性质 | 第54-55页 |
·不同电极上电沉积薄膜的电致发光性质 | 第55-57页 |
第四节 本章小结 | 第57-58页 |
第三章 图案化电沉积发光薄膜的可控制备 | 第58-74页 |
第一节 引言 | 第58-61页 |
第二节 图案化电沉积发光薄膜的制备 | 第61-67页 |
·电活性自组装分子的设计、合成与表征 | 第61页 |
·电活性 SAMs 修饰电极的制备与表征 | 第61-63页 |
·电活性 SAMs 在电极表面的覆盖度 | 第63-64页 |
·图案化电沉积发光薄膜的制备与表征 | 第64-67页 |
第三节 电活性 SAMs 对电沉积薄膜结构和器件性能的影响 | 第67-72页 |
·电活性 SAMs 对电极透过率及功函数的影响 | 第67-68页 |
·电活性 SAMs 对前体电沉积行为的影响 | 第68页 |
·电活性 SAMs 对电沉积薄膜交联度的影响 | 第68-69页 |
·电活性 SAMs 对电沉积薄膜形貌和粘附性的影响 | 第69-70页 |
·电活性 SAMs 对电沉积薄膜电致发光性质的影响 | 第70-72页 |
第四节 本章小结 | 第72-74页 |
第四章 图案化发光薄膜在有源基板上的定向沉积 | 第74-90页 |
第一节 引言 | 第74页 |
第二节 单色发光薄膜在有源基板上的电沉积 | 第74-85页 |
·有源基板设计 | 第74-75页 |
·有源基板上电沉积的电路控制方案 | 第75-76页 |
·有源基板上电沉积条件的优化 | 第76-83页 |
·电解池的改造 | 第76-77页 |
·有源基板上电沉积初试 | 第77-78页 |
·电沉积薄膜表面形貌的优化 | 第78-80页 |
·高质量电沉积薄膜的制备 | 第80-83页 |
·TFT 控制电沉积 | 第83-85页 |
第三节 RGB 发光薄膜在有源矩阵基板上的电沉积 | 第85-88页 |
·10 ×30 点阵的基板参数 | 第85-86页 |
·驱动管的特性曲线 | 第86-88页 |
第四节 本章小结及展望 | 第88-90页 |
第五章 实验用材料和测试仪器 | 第90-94页 |
第一节 实验用试剂和药品 | 第90页 |
第二节 实验用测试仪器与方法 | 第90-94页 |
参考文献 | 第94-118页 |
作者简历 | 第118页 |
攻读博士学位期间发表论文 | 第118-124页 |
致谢 | 第124-125页 |