摘要 | 第1-3页 |
ABSTRACT | 第3-6页 |
1. 文献综述 | 第6-17页 |
·水稻叶型及其它株型指标的研究现状 | 第6-11页 |
·株高 | 第6页 |
·穗型 | 第6-7页 |
·穗数 | 第7页 |
·根部形态 | 第7-8页 |
·分蘖能力 | 第8页 |
·节间配置 | 第8页 |
·叶型 | 第8-11页 |
·叶片形态与光抑制的关系 | 第11-16页 |
·光抑制 | 第11-16页 |
·叶片姿态与光抑制 | 第16页 |
·本文研究的目的与意义 | 第16-17页 |
2. 材料与方法 | 第17-21页 |
·供试材料与种植 | 第17页 |
·试验设置 | 第17页 |
·测定项目与方法 | 第17-20页 |
·温度及光合有效辐射 | 第17页 |
·光合-光响应曲线 | 第17-18页 |
·正常情况及DTT处理下叶片叶绿素荧光参数 | 第18页 |
·净光合速率(Pn)的日变化 | 第18页 |
·叶片活性氧的产生速率 | 第18-19页 |
·植株体内活性氧清除酶类SOD(超氧化物歧化酶)、APX(抗坏血酸过氧化物酶)活性 | 第19页 |
·叶片叶绿素含量(SPAD值) | 第19-20页 |
·茎鞘干物质及其运转率 | 第20页 |
·植物茎杆中可用性糖含量 | 第20页 |
·产量构成因素的测定 | 第20页 |
·数据分析 | 第20-21页 |
3. 结果与分析 | 第21-50页 |
·不同开张角叶片对水稻光合光抑制影响 | 第21-36页 |
·光合有效辐射、大气和叶片表面温度的日变化情况以及品种的光合-光响应曲线 | 第21-24页 |
·叶绿素荧光参数Fv/Fm的日变化 | 第24-26页 |
·光抑制的短时间恢复能力 | 第26-27页 |
·齐穗后不同时期净光合速率日变化情况 | 第27-29页 |
·不同叶片姿态光氧化或光破坏情况 | 第29-31页 |
·光氧化物质的清除能力 | 第31-34页 |
·叶片衰老进程 | 第34-35页 |
·茎鞘干物质积累及运转 | 第35页 |
·茎鞘可用糖含量变化 | 第35-36页 |
·籽粒结实状况 | 第36页 |
·不同卷曲度叶片对水稻光合光抑制影响 | 第36-50页 |
·不同时期叶片表面温度日变化情况 | 第36-38页 |
·叶片叶绿素荧光参数Fv/Fm的动态变化 | 第38-41页 |
·叶片光合速率动态变化 | 第41-42页 |
·叶片光氧化或光破坏情况 | 第42-44页 |
·叶片保护酶活性及其膜脂过氧化物动态变化情况 | 第44-47页 |
·叶片SPAD值动态变化 | 第47-48页 |
·不同卷曲度处理干物质积累及籽粒灌浆状况 | 第48-50页 |
4. 讨论 | 第50-54页 |
·水稻中光抑制的发生情况及其研究前景 | 第50-51页 |
·水稻叶片披垂程度与光抑制的关系 | 第51-52页 |
·水稻叶片卷曲特性与光抑制的关系 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-62页 |
致谢 | 第62-64页 |